[發(fā)明專利]一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源及和頻光輸出方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810059700.6 | 申請日: | 2018-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN108051973A | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳小明;魯燕華;許夏飛;張雷;任懷瑾;胡浩;童立新;龐毓;萬敏;石勇;劉芳 | 申請(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院應(yīng)用電子學(xué)研究所 |
| 主分類號: | G02F1/35 | 分類號: | G02F1/35;G02B27/10;G02F1/355 |
| 代理公司: | 北京同輝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 張明利 |
| 地址: | 621900 四川省綿陽市*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 固體 頻鈉導(dǎo)星 放大 自發(fā)輻射 光源 輸出 方法 | ||
1.一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,包括基頻光輸出方向平行的固體1064nm基頻光源(1)和固體1319nm基頻光源(2),且固體1064nm基頻光源(1)和/或固體1319nm基頻光源(2)為放大自發(fā)輻射光源;
還包括平面高反鏡(3)、合束鏡(4)、會聚凹面高反鏡(5)、和頻晶體(6)、準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)和分束鏡(8),所述合束鏡(4)、會聚凹面高反鏡(5)的鏡面中心均位于固體1064nm基頻光源(1)輸出的1064nm基頻光的傳輸光路上,且兩者沿著1064nm基頻光的傳輸方向依次設(shè)置,所述平面高反鏡(3)的鏡面中心位于固體1319nm基頻光源(2)輸出的1319nm基頻光的傳輸光路上,且其鏡面與1319nm基頻光的傳輸光路的夾角為45°,所述合束鏡(4)與平面高反鏡(3)平行設(shè)置,用于將1064nm基頻光和1319nm基頻光合束形成1064nm和1319nm基頻光,所述和頻晶體(6)和準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)均位于會聚凹面高反鏡(5)的反射光軸上,且準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)和會聚凹面高反鏡(5)的鏡面相對設(shè)置,所述和頻晶體(6)位于會聚凹面高反鏡(5)、準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)之間,所述分束鏡(8)位于準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)的反射光軸上,且其鏡面與準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)的反射光軸的夾角為45°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述固體1064nm基頻光源(1)為采用Nd:YAG、Nd:YVO
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述固體1064nm基頻光源(1)和/或固體1319nm基頻光源(2)為非線性頻率變換產(chǎn)生的線偏振窄線寬輸出光源。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述平面高反鏡(3)的前鏡面鍍有1319nm高反膜,其后鏡面鍍有1319nm增透膜,且前鏡面與后鏡面非平行設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述合束鏡(4)的前鏡面鍍有1064nm增透膜和1319nm增透膜,其后鏡面鍍有1064nm增透膜和1319nm高反膜,且前鏡面與后鏡面非平行設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述會聚凹面高反鏡(5)的前鏡面鍍有1064nm和1319nm基頻光高反膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述和頻晶體(6)為LBO、KTP、PPLN或PPLT非線性晶體,其兩端面傾斜切割且兩端面均鍍有1064nm和1319nm基頻光增透膜、589nm和頻光增透膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)的鏡面鍍有1064nm和1319nm基頻光高反膜、589nm和頻光高反膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源,其特征在于,所述分束鏡(8)的前鏡面鍍有1064nm和1319nm基頻光高反膜、589nm和頻光增透膜,其后鏡面鍍有1064nm和1319nm基頻光增透膜、589nm和頻光增透膜,且前鏡面與后鏡面非平行設(shè)置。
10.一種采用如權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述的固體和頻鈉導(dǎo)星放大自發(fā)輻射光源的和頻光輸出方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1:固體1064nm基頻光源(1)輸出1064nm基頻光,固體1319nm基頻光源(2)輸出1319nm基頻光;
S2:1064nm基頻光透射過合束鏡(4),1319nm基頻光經(jīng)平面高反鏡(3)反射至合束鏡(4)的后鏡面,1064nm基頻光和1319nm基頻光在合束鏡(4)的后鏡面合束形成1064nm和1319nm基頻光;
S3:1064nm和1319nm基頻光經(jīng)會聚凹面高反鏡(5)會聚并反射后,注入和頻晶體(6)實(shí)現(xiàn)非線性和頻轉(zhuǎn)換,輸出589nm和頻光(10)、未轉(zhuǎn)換的1064nm和1319nm基頻光(9);
S4:589nm和頻光(10)、未轉(zhuǎn)換的1064nm和1319nm基頻光(9)經(jīng)準(zhǔn)直凹面高反鏡(7)準(zhǔn)直并反射后,傳輸至分束鏡(8)處;
S5:未轉(zhuǎn)換的1064nm和1319nm基頻光(9)經(jīng)分束鏡(8)反射輸出,589nm和頻光(10)經(jīng)分束鏡(8)透射輸出,即可。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
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