[發明專利]確定潛山的供烴窗口的位置的方法及裝置

有效

• 申請號: 201810057874.9
• 申請日: 2018-01-22
• 公開（公告）號: CN109283578B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 張津寧;付立新;周建生;李宏軍;樓達;趙勇剛;馮建園;廉梅;胡瑞波;吳雪松;王輝;崔宇;王鑫;王文潔
• 申請（專利權）人: 中國石油天然氣股份有限公司
• 主分類號: G01V1/30
• 分類號: G01V1/30
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 周莉

1.一種確定潛山的供烴窗口的位置的方法，其特征在于，包括：

獲取潛山的斷層及與所述斷層相鄰的烴源巖的地震剖面圖；

根據所述地震剖面圖，得到所述烴源巖的反射頂界面或反射底界面，以及所述反射頂界面或所述反射底界面與所述斷層的交界線；

獲取所述反射頂界面或所述反射底界面上多個位置對應的深度，基于所述多個位置對應的深度，計算所述反射頂界面或所述反射底界面上的多個位置的靜巖壓力值；

根據所述多個位置的靜巖壓力值以及所述交界線，得到包含所述烴源巖的同一層上的多條壓力等值線及所述同一層與所述斷層的交界線的平面圖；

根據所述平面圖上的所述多條壓力等值線，在所述平面圖上確定油氣運移路線；

獲取所述油氣運移路線與所述交界線的交界位置，所述交界位置為所述潛山的供烴窗口的位置。

2.根據權利要求1所述的確定潛山的供烴窗口的位置的方法，其特征在于，所述計算所述反射頂界面或所述反射底界面之間的多個位置的靜巖壓力值，采用的計算公式為：

P＝hρg

式中，

P——某一位置的靜巖壓力值；

h——某一位置的深度；

ρ——某一位置的上覆巖層的平均密度

g——重力加速度。

3.根據權利要求1所述的確定潛山的供烴窗口的位置的方法，其特征在于，所述根據所述平面圖上的所述多條壓力等值線，在所述平面圖上確定油氣運移路線，包括：

在所述平面圖上繪制油氣運移路線，其中所述油氣運移路線垂直于每一條壓力等值線，且經過所述每一條壓力等值線的凹陷處的頂點，所述凹陷處的開口方向朝向所述交界線。

4.根據權利要求1所述的確定潛山的供烴窗口的位置的方法，其特征在于，所述烴源巖的多條壓力等值線中，任意相鄰的兩條壓力等值線的壓力差值相等。

5.一種確定潛山的供烴窗口的位置的裝置，其特征在于，包括：

第一獲取模塊，用于獲取潛山的斷層及與所述斷層相鄰的烴源巖的地震剖面圖；

第二獲取模塊，用于：

根據所述地震剖面圖，得到所述烴源巖的反射頂界面或反射底界面，以及所述反射頂界面或所述反射底界面與所述斷層的交界線；

獲取所述反射頂界面或所述反射底界面上多個位置對應的深度，基于所述多個位置對應的深度，計算所述反射頂界面或所述反射底界面上的多個位置的靜巖壓力值；

根據所述多個位置的靜巖壓力值、以及所述交界線，得到包含所述烴源巖的同一層上的多條壓力等值線及所述同一層與所述斷層的交界線的平面圖；

確定模塊，用于根據所述平面圖上的所述多條壓力等值線，在所述平面圖上確定油氣運移路線；

第三獲取模塊，用于獲取所述油氣運移路線與所述交界線的交界位置，所述交界位置為所述潛山的供烴窗口的位置。

6.根據權利要求5所述的確定潛山的供烴窗口的位置的裝置，其特征在于，所述第二獲取模塊計算所述反射頂界面或所述反射底界面之間的多個位置的靜巖壓力值，采用的計算公式為：

P＝hρg

式中，

P——某一位置的靜巖壓力值；

h——某一位置的深度；

ρ——某一位置的上覆巖層的平均密度

g——重力加速度。

7.根據權利要求5所述的確定潛山的供烴窗口的位置的裝置，其特征在于，所述確定模塊進一步用于：

在所述平面圖上，繪制油氣運移路線，其中所述油氣運移路線垂直于每一條壓力等值線，且經過所述每一條壓力等值線的凹陷處的頂點，所述凹陷處的開口方向朝向所述交界線。

8.根據權利要求5所述的確定潛山的供烴窗口的位置的裝置，其特征在于，所述烴源巖的多條壓力等值線中，任意相鄰的兩條壓力等值線的壓力差值相等。