[發(fā)明專利]基于3D成像的圖像生成方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810057400.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108280803A | 公開(公告)日: | 2018-07-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳躍華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 盎銳(上海)信息科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T3/00 | 分類號(hào): | G06T3/00;G06T19/20 |
| 代理公司: | 上海知義律師事務(wù)所 31304 | 代理人: | 劉峰 |
| 地址: | 201703 上海市青*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像生成 遮擋件 五官位置 頭像 圖片 便利 檢測(cè) | ||
本發(fā)明公開了一種基于3D成像的圖像生成方法及裝置,所述圖像生成方法包括:獲取頭像的3D模型;檢測(cè)所述3D模型上頭像的五官位置;在所述3D模型上添加至少一遮擋件,所述遮擋件通過所述五官位置進(jìn)行定位;通過帶有遮擋件的所述3D模型生成一2D圖片。本發(fā)明的基于3D成像的圖像生成方法及裝置能夠獲取效果更佳的2D圖片,而且通過3D模型能夠獲得更多種類的圖片,為用戶帶來便利。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種基于3D成像的圖像生成方法及裝置。
背景技術(shù)
照相機(jī)是一種利用光學(xué)成像原理形成影像并使用底片記錄影像的設(shè)備,是用于攝影的光學(xué)器械。
被攝景物反射出的光線通過照相鏡頭(攝景物鏡)和控制曝光量的快門聚焦后,被攝景物在暗箱內(nèi)的感光材料上形成潛像,經(jīng)沖洗處理(即顯影、定影)構(gòu)成永久性的影像,這種技術(shù)稱為攝影術(shù),分為一般照相與專業(yè)攝像。
隨著社會(huì)的發(fā)展,照相機(jī)與手機(jī)已經(jīng)完美結(jié)合,用戶通過手機(jī)能夠記錄身邊的事物、給自己拍照。現(xiàn)有手機(jī)通常具有美顏功能,美顏處理能夠自動(dòng)偵測(cè)臉部,幫你把眼睛變大、臉變小,能夠自動(dòng)美白。
現(xiàn)有技術(shù)中,圖片處理中的美顏方式功能較少且效果單一。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中圖片處理中的美顏方式功能較少且效果單一的缺陷,提供一種獲取效果更佳的2D圖片,而且通過3D模型能夠獲得更多種類的圖片,為用戶帶來便利的基于3D成像的圖像生成方法及裝置。
本發(fā)明是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題:
一種基于3D成像的圖像生成方法,其特點(diǎn)在于,所述圖像生成方法包括:
獲取頭像的3D模型;
檢測(cè)所述3D模型上頭像的五官位置;
在所述3D模型上添加至少一遮擋件,所述遮擋件通過所述五官位置進(jìn)行定位;
通過帶有遮擋件的所述3D模型生成一2D圖片。
較佳地,所述遮擋件包括像素層和模型層,所述在所述3D模型上添加至少一遮擋件包括:
所述遮擋件通過所述五官位置進(jìn)行定位;
分離所述遮擋件的像素層和模型層,將像素層貼附在3D模型的預(yù)設(shè)位置上。
較佳地,所述通過帶有遮擋件的所述3D模型生成一2D圖片包括:
對(duì)所述3D模型的像素層上的像素做美顏處理;
通過做過美顏處理并帶有遮擋件的所述3D模型獲取一2D圖片。
較佳地,所述對(duì)所述3D模型的像素層做美顏處理包括:
識(shí)別所述3D模型的模型層上的凸起區(qū)域及凹陷區(qū)域;
當(dāng)所述凸起區(qū)域的凸起峰值大于預(yù)設(shè)值時(shí),將凸起區(qū)域中的模型點(diǎn)向凸起的底部方向移動(dòng),當(dāng)所述凹陷區(qū)域的凹陷峰值大于預(yù)設(shè)值時(shí),將凹陷區(qū)域中的模型點(diǎn)向凹陷的頂部方向移動(dòng);
將做過美顏處理的像素層結(jié)合至所述模型層;
和/或,
在3D模型的模型層上獲取一目標(biāo)模型點(diǎn);
所述根據(jù)指令將所述目標(biāo)模型點(diǎn)向指定方向移動(dòng)一設(shè)定距離;
將目標(biāo)模型點(diǎn)周圍的模型點(diǎn)向所述指定方向移動(dòng)調(diào)整距離,每一模型點(diǎn)的調(diào)整距離大小與模型點(diǎn)到目標(biāo)模型點(diǎn)的距離成反比,所述調(diào)整距離小于所述設(shè)定距離;
將做過美顏處理的像素層結(jié)合至所述模型層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于盎銳(上海)信息科技有限公司,未經(jīng)盎銳(上海)信息科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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