[發(fā)明專利]多層復(fù)合結(jié)構(gòu)稀土鋇銅氧超導(dǎo)膜及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810055537.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108565067A | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮峰;黃榮廈;楊置榮;汪林立;母輝;瞿體明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué)深圳研究生院 |
| 主分類號(hào): | H01B13/00 | 分類號(hào): | H01B13/00 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223 | 代理人: | 王震宇 |
| 地址: | 518055 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超導(dǎo)膜 制備 多層復(fù)合結(jié)構(gòu) 稀土鋇銅氧 金屬層 化學(xué)溶液 涂覆 物理氣相沉積 基底上交替 熱處理 稀土金屬 稀土元素 前驅(qū)物 沉積 | ||
1.一種多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,包括:在基底上交替沉積REBa1+xCuO7-y膜和金屬層,形成的超導(dǎo)膜表示為(REBa1+xCuO7-y/M)n,其中RE為稀土元素,M表示金屬層,0.5≤x≤1,0<y<0.5,其中,REBa1+xCuO7-y使用化學(xué)溶液涂覆,所述化學(xué)溶液涂覆使用的前驅(qū)物中含有稀土金屬、鋇和銅的鹽類,所述金屬層使用物理氣相沉積,經(jīng)過熱處理后得到所述多層復(fù)合結(jié)構(gòu)稀土鋇銅氧超導(dǎo)膜,所述熱處理包括熱分解、燒結(jié)和充氧三個(gè)階段。
2.如權(quán)利要求1所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,所述化學(xué)溶液涂覆使用的前驅(qū)物形態(tài)為溶液或溶膠,其成分為以金屬陽離子摩爾比為1:(1+x):3的稀土元素、鋇和銅的鹽類為溶質(zhì),以及水、有機(jī)溶劑或酸類作為溶劑,其中0.5≤x≤1。
3.如權(quán)利要求1所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,稀土成分采用一種稀土元素或者若干種稀土元素組合,稀土元素包括釔(Y)、釓(Gd)、釤(Sm)、釹(Nd)、銪(Eu)、鏑(Dy)、鈥(Ho)、鉺(Er)中的一種或多種。
4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,所述鹽類包括三氟乙酸鹽、乙酸鹽、硝酸鹽、碳酸鹽、鹽酸鹽、丙烯酸鹽、環(huán)烷酸鹽中的一種或多種。
5.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,所述基底為具有雙軸織構(gòu)的氧化物。
6.如權(quán)利要求5所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,所述基底為單晶基片或具有雙軸織構(gòu)的薄膜。
7.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,所述化學(xué)溶液涂覆的涂覆方式為旋涂、浸涂、模縫涂布或噴涂打印。
8.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,在多層薄膜結(jié)構(gòu)的制備過程中,每涂覆一層REBa1+xCuO7-y膜后進(jìn)行熱解再進(jìn)行所述金屬層的物理氣相沉積,或者在多層薄膜結(jié)構(gòu)的制備過程中不進(jìn)行熱解。
9.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,在熱分解階段,以1-1500℃/分鐘的升溫速率將前驅(qū)膜樣品所處位置的爐溫升至為300-650℃并保溫不超過60分鐘,該過程中使用0.1-3升/分鐘的高純氧氣流作為熱分解氣氛,并在100℃左右增加水蒸汽的通入;在燒結(jié)階段,在熱處理爐中通入氧氮混合氣和水蒸汽,氣體流量為0.1-3升/分鐘,以10-100℃/分鐘的升溫速率將前驅(qū)膜樣品所處位置的爐溫升至為730-825℃并保溫20-250分鐘;在充氧階段,將前驅(qū)膜樣品所處位置的爐溫降至400-500℃,保溫0-240分鐘,在降溫過程中將熱處理氣氛切換為干燥的高純氧氣;最后使樣品冷卻至室溫。
10.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法,其特征在于,所述金屬層的元素包括鈰(Ce)、金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、釕(Ru)、銠(Rh)、鈀(Pd)、鋨(Os)、銥(Ir)中的一種或多種,所述金屬層的厚度不超過100nm,其形貌可以為連續(xù)的金屬薄膜或島狀的不連續(xù)的薄膜;所述物理氣相沉積方法為磁控濺射、離子束濺射或真空蒸鍍。
11.一種多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜,其特征在于,是由如權(quán)利要求1至10任一項(xiàng)所述的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜制備方法制備得到的稀土鋇銅氧高溫超導(dǎo)膜。
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