[發明專利]滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置有效
| 申請號: | 201810055199.6 | 申請日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN108264026B | 公開(公告)日: | 2021-03-05 |
| 發明(設計)人: | 陳秉巖;甘育麟;戚家程;蘇巍;蔣永鋒;費峻濤;朱昌平 | 申請(專利權)人: | 河海大學常州校區 |
| 主分類號: | C01B15/027 | 分類號: | C01B15/027 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林;張賞 |
| 地址: | 213022 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 滾筒 介質 阻擋 放電 雙氧水 制備 裝置 | ||
1.滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置,其特征在于,包括密封箱體、進氣單元、供水單元、電機傳動機構、電機驅動單元、電機控制單元、DBD單元、氣體回收單元、雙氧水收集單元、光譜檢測單元、可編程AC/DC電源、PDM高壓激勵電源和輔助電源;其中,電機傳動機構和DBD單元共同構成雙氧水生成單元,并且電機傳動機構、DBD單元、雙氧水收集單元和光譜檢測單元置于密封箱體內;所述密封箱體上開有密封箱體上開有進氣孔、出氣孔和出水口;
所述進氣單元由氣源、氣泵、調節閥、供氣管道和氣體流量計組成,氣泵從氣源抽取一定流量的氣體經由供氣管道接入密封箱體的進氣孔,給雙氧水制備裝置提供一定流量的氧氣;
所述供水單元由水箱、水泵、水閥、液體流量計、供水管道、水槽和下部的引水刷構成,水泵抽取水箱內的水經由供水管道至水槽,所述水槽底部設有孔洞,水槽里的水透過孔洞,順著引水刷流到傳動薄膜上,電機帶動薄膜轉動時與靠近薄膜的引水刷摩擦,從而水槽中的水通過引水刷刷到薄膜上;通過調節注入水槽的水的流量大小和水槽底部孔洞的大小調節水膜的厚度在0.1mm—0.5mm范圍內;
所述電機傳動機構由伺服電機和一系列伺服電機傳動機構構成,所述DBD單元由高壓滾筒電極和條狀低壓電極構成,電機軸套中心與全部高壓滾筒電極轉軸中心共線,且高壓滾筒電極的半徑與電機主動輪半徑相等,先把傳動薄膜套在高壓滾筒電極和電機軸套上,后固定高壓滾筒電極在密封箱體內的位置,水平移動電機至傳動薄膜繃緊,高壓滾筒電極和條狀低壓電極間形成放電間隙,在PDM高壓激勵電源作用下對水膜進行放電,產生雙氧水;
所述光譜檢測單元為光譜探頭,用于檢測放電間隙產生的羥基的相對光譜強度;所述可編程AC/DC電源用于設定PDM高壓激勵電源的輸入電壓及整個系統的功率;所述PDM高壓激勵電源為雙氧水發生器的激勵電源;所述輔助電源用于給電機驅動單元供電;所述雙氧水收集單元采用收集槽收集雙氧水,收集到的雙氧水需經過系列富集提純;所述氣體回收單元將未完全反應的氣體由出氣孔通過壓縮機增壓進入氣泵;所述收集槽安裝在距離最右端的滾筒中心10-30cm處,且刮板緊靠傳動薄膜;所述光譜探頭放置在傳動薄膜上方3-12mm,并放置在任意一個低壓電極旁,與低壓電極之間水平距離為10-30mm;所述輔助電源給電機驅動單元供電,電機控制單元與電機驅動單元相連,電機驅動單元與電機傳動機構相連;雙氧水產生單元與氣體回收單元相連,氣體回收單元與進氣單元相連;所述輔助電源與可編程AC/DC電源相連,可編程AC/DC電源與PDM高壓激勵電源相連;所述PDM高壓激勵電源的負極與DBD反應器的條狀低壓電極相連,PDM高壓激勵電源的正極與DBD反應器的高壓滾筒電極相連,在高壓滾筒電極上套上一層絕緣套作為放電介質層;
所述傳動薄膜運行速度v,占空比D,相鄰高壓滾筒電極的間距L2,滿足下式:
L2=(2N+1)DTm,jv
其中,N為非零自然數,Tm,j為一個功率密度調制周期,Ton,j為一個調功周期內的放電時間。
2.根據權利要求1所述的滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置,其特征在于,所述高壓滾筒電極和條狀低壓電極間的間距為0.5-2.5cm;所述高壓滾筒電極和條狀低壓電極均由不銹鋼材料構成。
3.根據權利要求1所述的滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置,其特征在于,所述密封箱體采用塑料或有機玻璃絕緣材料。
4.根據權利要求1所述的滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置,其特征在于,所述放電介質層采用聚四氟乙烯或橡膠。
5.根據權利要求1所述的滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置,其特征在于,所述水槽底部孔洞的大小為0.5mm—2.5mm。
6.根據權利要求1所述的滾筒式介質阻擋放電水膜雙氧水制備裝置,其特征在于,所述收集槽整體結構為無蓋U形槽,后板為刮板且高度高于前板10-30mm,并且具有30°-75°的斜度,U形槽的左右兩側任意側開通,使刮下的雙氧水流到密封箱體內,并從密封箱體的出水口流出,進行收集。
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