[發明專利]一種掩膜板在審
| 申請號： | 201810054962.3 | 申請日： | 2018-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN108342686A | 公開（公告）日： | 2018-07-31 |
| 發明（設計）人： | 申麗萍;黃秀頎;朱可;唐靜;袁春芳 | 申請（專利權）人： | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人： | 許志勇 |
| 地址： | 215300 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 對位標記 漫反射區 掩膜板 粗糙度 相鄰處 平板顯示器制造 光滑表面 鏡面反射 相機拍攝 掩膜 光源 成像 相機 | ||
【權利要求書】：
1.一種掩膜板，其特征在于，包括：
本體；
對位標記，位于所述本體上；
漫反射區，位于所述本體上并設置于所述對位標記的相鄰處，所述漫反射區的表面的粗糙度值大于所述對位標記的表面的粗糙度值。
2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板還包括設置于所述對位標記和所述漫反射區之間的鏡面反射區。
3.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述鏡面反射區的面積與漫反射區的面積之比在1:9至4:6范圍內。
4.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述鏡面反射區環繞設置在所述對位標記的周邊。
5.根據權利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述漫反射區環繞在所述鏡面反射區的周邊。
6.根據權利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述漫反射區呈方形環。
7.根據權利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述鏡面反射區呈方形環。
8.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述漫反射區的表面的粗糙度值在1.6微米以上。
9.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述對位標記包括位于所述本體上的對位孔。
10.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述對位標記的數量為多個，各對位標記與相鄰處的漫反射區的距離相同。
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