[發明專利]用于定位天線的天線測量系統和方法

有效

• 申請號: 201810054002.7
• 申請日: 2018-01-19
• 公開（公告）號: CN109873244B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 科比特·羅威爾
• 申請（專利權）人: 羅德施瓦茲兩合股份有限公司
• 主分類號: H01Q1/12
• 分類號: H01Q1/12
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華;李欣

1.一種天線測量系統（200），包括：

天線（201），和

被測設備（202），

其中，所述天線（201）包括集成在所述天線（201）中的發光單元（203），

其中，所述發光單元（203）配置成將來自所述天線（201）的饋線的由光帶勾勒的陰影（207）投射到所述被測設備（202）上，以及

其中，所述發光單元（203）的光束（204）指向所述天線（201）的主輻射方向或相對于所述天線（201）的所述主輻射方向具有預定的偏移角的方向。

2.根據權利要求1所述的天線測量系統（200），

其中，所述天線（201）包括孔，其中，所述發光單元（203）直接被集成在所述孔的中心。

3.根據權利要求2所述的天線測量系統（200），

其中，所述天線（201）包括跨越所述天線（201）的所述孔的間隙的饋線。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的天線測量系統（200），

其中，所述發光單元（203）為激光發射單元。

5.根據權利要求4所述的天線測量系統（200），

其中，所述發光單元（203）為激光二極管。

6.根據權利要求1所述的天線測量系統（200），

其中，所述發光單元（203）的所述光束（204）穿過所述天線（201）的所述主輻射方向束的中心。

7.根據權利要求1至3中任一項所述的天線測量系統（200），

其中，所述天線（201）為號角天線或維瓦爾第天線。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的天線測量系統（200），

其中，所述天線（201）為不平衡的天線和/或測量饋送天線。

9.根據權利要求1至3中任一項所述的天線測量系統（200），

其中，所述天線（201）為雙極化的。

10.根據權利要求1至3中任一項所述的天線測量系統（200），

其中，所述發光單元（203）配置成投射交叉形（208）以用于所述被測設備（202）的更精確校準。

11.根據權利要求1至3中任一項所述的天線測量系統（200），

其中，所述天線測量系統（200）包括信號分析測量設備，和/或

其中，所述天線測量系統（200）包括信號生成測量設備。

12.一種天線測量方法，所述方法包括如下步驟：

使用根據權利要求1至11中任一項所述的天線測量系統（200），以及

借助集成在所述天線（201）中的所述發光單元（203），將所述天線測量系統（200）的所述天線（201）相對于所述天線測量系統（200）的所述被測設備（202）校準，

其中，所述發光單元（203）將來自所述天線（201）的饋線的由光帶勾勒的陰影（207）投射到所述被測設備（202）上，以及

其中，所述發光單元（203）的光束（204）指向所述天線（201）的主輻射方向或相對于所述天線（201）的所述主輻射方向具有預定的偏移角的方向。

13.根據權利要求12所述的天線測量方法，

其中，在測量之前或在測量期間操作所述天線（201）的所述發光單元（203）。

14.根據權利要求12或13所述的天線測量方法，

其中，與測量一起實時地操作所述天線（201）的所述發光單元（203）。