[發明專利]一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法在審
| 申請號: | 201810053955.1 | 申請日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN108359344A | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發明(設計)人: | 王忠剛;葉維維;周雪;王澤鋒;駱新然 | 申請(專利權)人: | 大連理工大學 |
| 主分類號: | C09D151/00 | 分類號: | C09D151/00;C09D5/22;C08F257/00;C08F212/36;C08F220/06;C08F212/14;C08F8/42 |
| 代理公司: | 大連理工大學專利中心 21200 | 代理人: | 溫福雪;侯明遠 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 熒光涂層 疏水性 制備 聚合物微球 耐高溫 配位 稀土化合物 小分子配體 發光均勻 溶液涂布 微球粒徑 有機溶劑 聚合物 粗糙度 微米級 點狀 基質 疏水 微球 發光 應用 保證 | ||
1.一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,步驟如下:
步驟1:用核殼乳液聚合法制備核殼乳液,將核殼乳液進行固液分離,得到固態的羧基粒子;其中,羧基粒子的核層為聚二乙烯基苯,羧基粒子的殼層為二乙烯基苯和含羧基單體的共聚物,羧基粒子的粒徑為800nm~2um;
步驟2:將步驟1得到的羧基粒子分散到有機溶劑中,然后加入小分子配體和稀土化合物,攪拌1‐5h后得到聚合物稀土配位微球的懸浮液;有機溶劑中各物質的摩爾質量之比為:羧基粒子所含羧基:小分子配體:稀土化合物=1~2:2~4:1;所述懸浮液的固含量為0.005~0.05g/mL;
步驟3:將步驟2所得的懸浮液進行超聲分散1~10min,然后涂布于基質上,待有機溶劑揮發后,得到高疏水涂層。
2.根據權利要求1所述的一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,步驟1中所述的核殼乳液聚合法的步驟為:首先將二乙烯基苯滴加到含有乳化劑和助乳化劑的混合水溶液中,得到預乳化液;再將預乳化液置于冰水浴中,超聲1~10min;然后在50~80℃下,向預乳化液中加入引發劑水溶液Ⅰ,反應4~10h得到種子乳液;最后在50~90℃下,向種子乳液中同時滴加單體水溶液和引發劑水溶液Ⅱ,制備殼層,反應2~6h后得到核殼乳液,其中,單體水溶液由二乙烯基苯、含羧基單體、乳化劑和去離子水組成。
3.根據權利要求2所述的一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,所述種子乳液中各物質的質量比為:二乙烯基苯:乳化劑:助乳化劑:引發劑:去離子水=1:0.01~0.05:0.03~0.1:0.002~0.006:4~8;引發劑水溶液Ⅰ中引發劑與水的質量比為0.003~0.02:1;單體水溶液中各物質的質量比為:二乙烯基苯:含羧基單體:乳化劑:去離子水為1:0.075~0.65:0.02~0.05:1.8~5;引發劑水溶液Ⅱ中引發劑與水的質量比為0.0006~0.005:1;所述預乳化液中二乙烯基苯與單體水溶液中二乙烯基苯的質量比為1:0.3~0.8;所述引發劑水溶液Ⅰ與引發劑水溶液Ⅱ中引發劑的質量比為0.8~2.5:1。
4.根據權利要求2或3所述的一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,所述的乳化劑為十二磺基硫酸鈉、十二磺基磺酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、十二磺基硫酸鉀、十二磺基磺酸鉀、十二烷基苯磺酸鉀、硬脂酸鈉中的一種或兩種以上混合;所述的助乳化劑為碳數為4~20的烷基醇、脂肪烴、聚合物醇中的一種或兩種以上混合;所述的引發劑為過硫酸鉀、過硫酸鈉、過硫酸銨、過硫酸銨‐亞硫酸氫鈉、過氧化氫‐氯化亞鐵中的一種或兩種以上混合;所述的含羧基單體為含乙烯基的烷基酸或含乙烯基的芳香酸。
5.根據權利要求1、2或3所述的一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,步驟2中所述的有機溶劑為脂肪烴和芳香烴、氯代烴、烷基醇、烷基酮中的一種或兩種以上混合;所述的小分子配體為水楊酸、鄰苯二甲酸、苯甲酸、α‐噻吩甲酰三氟丙酮、乙酰丙酮、苯甲酰丙酮、苯甲酰三氟丙酮、8‐羥基喹啉、鄰菲羅啉、2,2‐聯吡啶、三苯基氧化膦中的一種或兩種以上混合;所述的稀土化合物為含銪、鋱、鑭、釤、釓、鏑、鈥、鉺、銩、鈰、鐿或镥的硝酸鹽、氯化鹽。
6.根據權利要求4所述的一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,步驟2中所述的有機溶劑為脂肪烴和芳香烴、氯代烴、烷基醇、烷基酮中的一種或兩種以上混合;所述的小分子配體為水楊酸、鄰苯二甲酸、苯甲酸、α‐噻吩甲酰三氟丙酮、乙酰丙酮、苯甲酰丙酮、苯甲酰三氟丙酮、8‐羥基喹啉、鄰菲羅啉、2,2‐聯吡啶、三苯基氧化膦中的一種或兩種以上混合;所述的稀土化合物為含銪、鋱、鑭、釤、釓、鏑、鈥、鉺、銩、鈰、鐿或镥的硝酸鹽、氯化鹽。
7.根據權利要求1、2、3或6所述的一種高疏水性耐高溫熒光涂層的制備方法,其特征在于,步驟3中所述的涂布的方式為澆注、刷涂或旋涂;所述的基質為玻璃片、木板、鐵片、布或陶瓷。
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