[發明專利]氯硅烷液體中和處理裝置及處理方法

有效

• 申請號: 201810053135.2
• 申請日: 2018-01-19
• 公開（公告）號: CN108126644B
• 公開（公告）日: 2023-08-29
• 發明（設計）人: 吳中明
• 申請（專利權）人: 德山化工（浙江）有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司 31229
• 代理人: 曾耀先

1.一種氯硅烷液體中和處理裝置，包括中和所述氯硅烷液體的堿性中和液及儲存所述堿性中和液的儲存槽，其特征在于，所述處理裝置還包括：

供應所述氯硅烷液體的供應管，所述供應管的下端成形有氯硅烷液體流出口，所述液體流出口延伸至所述堿性中和液的儲存槽內，所述液體流出口位于所述堿性中和液的液面上方；

用于噴射惰性氣體的噴射管，所述噴射管包括噴射管管體及送氣管，所述噴射管管體的一端成形有向下的氣體噴出口，所述氣體噴出口的高度高于所述氯硅烷液體流出口，所述噴射管設于所述液體流出口的周圍以向圍設形成所述液體流出口的液體流出口側壁周圍噴射惰性氣體，所述送氣管與所述噴射管管體連通設置，所述供應管的上端連接有清洗管，所述清洗管與所述供應管之間設有閥門以控制所述清洗管與所述供應管的連通與閉合。

2.根據權利要求1所述的氯硅烷液體中和處理裝置，其特征在于，所述供應管的液體流出口與所述堿性中和液的液面之間的距離為500～2000mm。

3.根據權利要求1所述的氯硅烷液體中和處理裝置，其特征在于，所述供應管的側部形成有分支管，所述氯硅烷液體通過所述分支管進入所述供應管。

4.根據權利要求1所述的氯硅烷液體中和處理裝置，其特征在于，所述噴射管與所述供應管為雙層管結構，所述噴射管的內壁與所述供應管的外壁之間有惰性氣體的容納空間。

5.根據權利要求4所述的氯硅烷液體中和處理裝置，其特征在于，所述噴射管的氣體噴出口的口徑小于所述噴射管的口徑，圍設形成所述氣體噴出口的側壁為傾斜面。

6.根據權利要求4或5所述的氯硅烷液體中和處理裝置，其特征在于，所述噴射管的氣體噴出口的四周設置有庇板，所述庇板通過向下擴徑形成阻擋所述惰性氣體上升的擋板；所述供應管的外部還設有外筒以令所述惰性氣體與外部空間隔開。

7.根據權利要求1所述的氯硅烷液體中和處理裝置，其特征在于，所述噴射管的氣體噴出口的底端距離所述供應管的液體流出口底端的距離為0～30mm。

8.一種利用權利要求1至7中任一權利要求所述的氯硅烷液體中和處理裝置的氯硅烷液體處理方法，其特征在于，所述供應管供應的氯硅烷液體沿著所述堿性中和液的液面流入儲存槽中與所述堿性中和液反應，同時所述噴射管向所述液體流出口側壁周圍噴射惰性氣體；其中：

所述氯硅烷液體的供應量是以所述供應管的液體流出口面的每平方米0.20～0.50L/秒的速度供應，所述供應管的液體流出口的面積為0.5～10cm²。

9.根據權利要求8所述的氯硅烷液體處理方法，其特征在于，所述惰性氣體的噴射量是以所述氣體噴出口面的每平方米0.35～2.5NL/秒的速度供應，所述噴射管的氣體噴出口的面積為2～15cm²，所述惰性氣體的噴射量相對于所述氯硅烷液體的供應量為1.2～5.0NL/L。

10.根據權利要求8所述的氯硅烷液體處理方法，其特征在于，所述堿性中和液的pH為8～12，溫度為25℃。