[發明專利]有機發光顯示器件及其制備方法及有機發光顯示裝置

有效

• 申請號: 201810053116.X
• 申請日: 2018-01-19
• 公開（公告）號: CN108232036B
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 卜凡中;劉如勝;郭瑞;都秉龍;李加偉
• 申請（專利權）人: 云谷(固安)科技有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 44224 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 王樂

1.一種有機發光顯示器件，其特征在于，包括：

基板，具有像素限定區以及像素區；

像素隔離柱，形成于所述像素限定區上；

無機保護層，覆蓋所述像素隔離柱的至少側壁；

像素主體，形成于所述像素區上；

無機封裝層，覆蓋于所述無機保護層以及所述像素主體上；

以及有機封裝層，覆蓋于所述無機封裝層上；

在所述像素隔離柱的頂部處開設有貫穿所述無機保護層以及所述無機封裝層的過孔，所述有機封裝層通過所述過孔與所述像素隔離柱接觸；

其中，所述像素隔離柱為有機材料。

2.根據權利要求1所述的有機發光顯示器件，其特征在于，所述過孔在所述基板上的投影位于所述像素隔離柱的頂部在所述基板上的投影內。

3.根據權利要求1所述的有機發光顯示器件，其特征在于，所述無機保護層的材質選自硅的氮化物、硅的氧化物、鋁的氧化物中的一種或幾種。

4.根據權利要求1所述的有機發光顯示器件，其特征在于，所述無機保護層的厚度為10nm-500nm。

5.一種有機發光顯示器件的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供基板；所述基板具有像素限定區以及像素區；

在所述基板的所述像素限定區上形成像素隔離柱；

在所述像素隔離柱的至少側壁上覆蓋無機保護層，然后在像素區上形成像素主體；

在所述無機保護層與所述像素主體上覆蓋無機封裝層；

以及在所述無機封裝層上覆蓋有機封裝層；

在所述像素隔離柱的頂部處開設有貫穿所述無機保護層以及所述無機封裝層的過孔，所述有機封裝層通過所述過孔與所述像素隔離柱接觸；

其中，所述像素隔離柱為有機材料。

6.根據權利要求5所述的有機發光顯示器件的制備方法，其特征在于，在所述像素隔離柱的頂部以及側壁上覆蓋無機保護層包括如下步驟：

在帶有所述像素隔離柱的基板上制備一層無機膜；然后將所述無機膜位于像素區上的部分蝕刻掉，以形成無機保護層。

7.根據權利要求5所述的有機發光顯示器件的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：在覆蓋有機封裝層之前，在所述像素隔離柱的頂部處開設有貫穿所述無機封裝層以及所述無機保護層的過孔。

8.根據權利要求7所述的有機發光顯示器件的制備方法，其特征在于，所述過孔采用干刻形成。

9.一種有機發光顯示裝置，其特征在于，所述有機發光顯示裝置包括權利要求1-4任一項所述的有機發光顯示器件。