[發明專利]940nm窄帶濾光片及其遞變膜系設計方法在審
| 申請號： | 201810049492.1 | 申請日： | 2018-01-18 |
| 公開（公告）號： | CN108169831A | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發明（設計）人： | 陳剛 | 申請（專利權）人： | 無錫奧芬光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20;G02B1/10 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷紅梅;任月娜 |
| 地址： | 214028 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 膜堆 窄帶濾光片 光學厚度系數 低折射率材料膜層 高折射率材料膜層 基板上表面 真空蒸鍍法 膜系結構 數值區間 折射率膜 正弦曲線 中心波長 低成本 矩形度 濾光片 上表面 上升沿 下降沿 透射 光譜 基板 膜系 窄帶 沉積 制備 陡峭 通用 | ||
本發明涉及一種940nm窄帶濾光片及其設計方法，包括基板、第一遞變膜堆和第二遞變膜堆，第一遞變膜堆沉積在基板上表面，第二遞變膜堆設置于第一遞變膜堆上表面，膜系結構為：Sub│(α1Hβ1Lα2Hβ2L…αnHβnL)(i1Hk1Li2Hk2L…inHknL)│Air；第一遞變膜堆和第二遞變膜堆中高折射率材料膜層光學厚度系數形成的曲線與低折射率材料膜層的光學厚度系數形成的曲線分別為正弦曲線中的0～π/2、π/2～π、π～3π/2或3π/2～2π數值區間內的波形，兩條曲線遞變趨勢相反。本發明采用通用折射率膜料、真空蒸鍍法、低成本制備出940nm窄帶濾光片，該濾光片具有中心波長為940nm的窄帶透過光譜，透射帶的上升沿和下降沿陡峭，波形矩形度好。
技術領域
本發明涉及一種940nm窄帶濾光片及其遞變膜系設計方法，屬于光學鍍膜技術領域。
背景技術
人臉識別技術是對人的臉部特征信息進行識別，它是一種生物識別技術。用3D視覺系統采集含有人臉的圖像或視頻流，并根據圖像自動檢測和跟蹤人臉，并對人臉進行3D特征定位、提取立體數據，通過比對辨識達到精確識別不同人身份的目的。
3D視覺系統的紅外光接收模組用于對被拍攝物體反射的紅外光進行接收和處理，獲取被拍攝物體的空間信息。紅外光接收模組主要由三部分組成：近紅外圖像傳感器、窄帶濾光片、鏡頭。窄帶濾光片置于3D攝像頭的鏡頭和近紅外圖像傳感器之間，允許近紅外光通過的同時過濾環境光。紅外光源是3D視覺系統中工作的“源頭”，是實現深度測量的主要“功臣”之一，3D視覺系統的紅外光源主要有紅外LED和激光器(主要是VCSEL)。如VCSEL發射的是940nm波長的近紅外光，因此在3D攝像頭接收端需要將940nm以外的環境光“剔除”，讓接收端的紅外圖像傳感器只接收到940nm的近紅外光。為達到這一目的，就需要用到940nm窄帶濾光片。
目前，940nm窄帶濾光片采用磁控濺射法沉積α-硅/二氧化硅多層膜制備，但存在磁控濺射鍍膜設備昂貴、制作成本高等問題。
發明內容
本發明的目的是為了解決磁控濺射法制備940nm窄帶濾光片的步驟復雜且成本高的問題，提供了一種940nm窄帶濾光片及其遞變膜系設計方法，采用該膜系制備的濾光片能夠采用通用折射率膜料為原料，采用真空蒸鍍法制備，大大降低了濾光片的生產成本。
本發明采用如下技術方案：一種940nm窄帶濾光片，包括基板、第一遞變膜堆和第二遞變膜堆，所述第一遞變膜堆沉積在基板上表面，所述第二遞變膜堆設置于第一遞變膜堆上表面，膜系結構為：Sub│
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