[發(fā)明專利]用于添加式地制造三維物體的設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810048094.8
• 申請日: 2018-01-18
• 公開（公告）號: CN109693375B
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: D·布勞恩羅思
• 申請（專利權(quán)）人: CL產(chǎn)權(quán)管理有限公司
• 主分類號: B29C64/153
• 分類號: B29C64/153;B29C64/20;B22F3/105;B28B1/00;B33Y30/00
• 代理公司: 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300
• 代理人: 徐穎聰

1.一種用于通過依次逐層地選擇性照射和固化由能借助能量束(4)固化的建造材料(3)構(gòu)成的層來添加式地制造三維物體(2)的設(shè)備(1)，所述設(shè)備(1)包括：

-至少一個建造板(5)，所述建造板(5)在至少一個運動自由度上可移動地被支承；和/或

-至少一個建造材料施加元件(7，7a，7b)，所述建造材料施加元件(7，7a，7b)可移動地被支承；

-至少一個光學器件(16)，所述光學器件(16)適配為光學地確定所述建造板(5)和/或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)相對于基準平面(RP)的取向和/或位置，

其中，所述光學器件(16)適配為出射至少兩個測量束(18，18a，18b)，所述至少兩個測量束(18，18a，18b)至少部分地延伸穿過所述設(shè)備(1)的過程室(17)，由此限定測量平面(MP)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述光學器件(16)包括適配為出射所述至少兩個測量束(18，18a，18b)的至少一個測量束出射單元(19)或各自適配為出射至少一個測量束(18，18a，18b)的至少兩個測量束出射單元(19)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的設(shè)備，其中，所述測量平面(MP)相對于所述設(shè)備(1)的建造平面(BP)具有成角度或平行的布置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的設(shè)備，其中，所述測量平面(MP)相對于所述基準平面(RP)或所述設(shè)備(1)的建造平面(BP)具有規(guī)定的距離(d)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的設(shè)備，其中，所述光學器件(16)包括適配為接收從至少一個測量束出射單元(19)出射的至少一個測量束(18，18a，18b)的至少一個測量束接收單元，或所述光學器件(16)包括適配為將從至少一個測量束出射單元(19)出射的至少一個測量束(18，18a，18b)朝向所述測量束出射單元(19)回射的至少一個測量束反射單元(20)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的設(shè)備，其中，所述光學器件(16)包括測量束檢測單元(21)，所述測量束檢測單元(21)適配為檢測由測量束接收單元接收的測量束(18，18a，18b)和/或適配為檢測朝向測量束出射單元(19)回射的測量束(18，18a，18b)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的設(shè)備，其中，所述光學器件(16)包括至少一個測量束行程時間確定單元(22)，所述至少一個測量束行程時間確定單元(22)適配為確定測量束(18，18a，18b)在所述測量束(18，18a，18b)被測量束出射單元(19)出射的時間點與所述測量束(18，18a，18b)被測量束檢測單元(21)檢測到的時間點之間所行進的時間間隔。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的設(shè)備，還包括控制裝置(15)，所述控制裝置(15)適配為控制所述建造板(5)和/或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)相對于所述測量平面(MP)的運動。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述控制裝置(15)適配為實施用于確定所述建造板(5)和/或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)的基準位置的校準模式，其中所述校準模式包括所述建造板(5)和/或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)相對于所述測量平面(MP)的特定次序的運動，其中所述建造板(5)和/或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)的基準位置被確定為所述建造板(5)或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)的這樣一個位置：所述建造板(5)或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)被移動到所述測量平面(MP)中的該位置，從而使得測量束(18，18a，18b)能在所述建造板(5)或所述建造材料施加元件(7，7a，7b)處被反射。