[發(fā)明專利]校正高功率激光器M2測(cè)量系統(tǒng)熱形變的裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810040754.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108287058B | 公開(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓志剛;季琨皓;沈華;朱日宏;孟令強(qiáng);孔慶慶;經(jīng)逸秋;李思宇;楊哲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01M11/02 | 分類號(hào): | G01M11/02 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 朱沉雁 |
| 地址: | 210094 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 楔板 反射鏡 分光鏡 高功率激光器 測(cè)量系統(tǒng) 反射光 熱形變 波前探測(cè)器 標(biāo)準(zhǔn)平晶 功率衰減 平行平板 干涉儀 校正 測(cè)量 反射鏡設(shè)置 測(cè)量過程 動(dòng)態(tài)測(cè)量 光學(xué)元件 依次設(shè)置 反射率 透射光 光路 去除 保證 | ||
本發(fā)明公開了一種校正高功率激光器M2測(cè)量系統(tǒng)熱形變的裝置及方法,沿光路依次設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)平晶、功率衰減平行平板、第一楔板反射鏡、第二楔板反射鏡、分光鏡、波前探測(cè)器和動(dòng)態(tài)干涉儀;第二楔板反射鏡設(shè)置于第一楔板反射鏡的反射光路上;分光鏡設(shè)置于第二楔板反射鏡的反射光路上;波前探測(cè)器設(shè)置于分光鏡的透射光路上,動(dòng)態(tài)干涉儀設(shè)置于分光鏡的反射光路上。裝置中標(biāo)準(zhǔn)平晶、功率衰減平行平板、第一楔板反射鏡、第二楔板反射鏡、分光鏡上均鍍有特定反射率的膜。本發(fā)明可以對(duì)高功率激光器M2測(cè)量系統(tǒng)中光學(xué)元件熱形變帶來的M2誤差進(jìn)行測(cè)量和去除,同時(shí)保證測(cè)量過程的高速,在高精度的測(cè)量中實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量M2的動(dòng)態(tài)測(cè)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及高功率激光器測(cè)量領(lǐng)域,具體涉及校正高功率激光器M2測(cè)量系統(tǒng)熱形變的裝置及方法。
背景技術(shù)
近年來激光技術(shù)不斷進(jìn)步,高功率激光器發(fā)展迅猛,并迅速應(yīng)用于工業(yè)和軍事等領(lǐng)域。在制造工業(yè)中,它可以作為高強(qiáng)度光源,用于切割、打孔、焊接等。在軍事領(lǐng)域可用于車載、艦載激光武器,也可作為激光武器的信標(biāo)光源,并且在光電對(duì)抗、激光制導(dǎo)和激光誘導(dǎo)核聚變等領(lǐng)域也有廣泛應(yīng)用。為衡量激光光束優(yōu)劣,要對(duì)激光光束質(zhì)量進(jìn)行評(píng)價(jià),用以指導(dǎo)激光器生產(chǎn)和提供應(yīng)用參考。針對(duì)不同的激光應(yīng)用,歷史上科學(xué)家提出了各種各樣的評(píng)價(jià)參數(shù),比如:光束質(zhì)量因子 M2,斯特列爾比,桶中功率,衍射極限因子β等。由于光束質(zhì)量M2因子同時(shí)涵蓋了激光的近場(chǎng)及遠(yuǎn)場(chǎng)特性,相較其它定義方式,其已廣泛被國際光學(xué)界所承認(rèn),并由ISO國際標(biāo)準(zhǔn)化組織予以推薦。
對(duì)激光光束質(zhì)量因子M2的測(cè)量,科學(xué)家們提出了各種各樣的方法。有需要一定測(cè)量時(shí)間的CCD多位置測(cè)量法、刀口法、液體透鏡法等,也有許多動(dòng)態(tài)的測(cè)量方法,比如波前分析法,模式分解法,法布里-珀羅腔法等。
但在高功率激光器光束質(zhì)量因子M2的測(cè)量過程中,測(cè)試光路中的光學(xué)元件會(huì)由于激光照射產(chǎn)生熱形變,進(jìn)而帶來波前畸變,這使得采用需要一定測(cè)量時(shí)間的方法的計(jì)算結(jié)果必然有一定的誤差,動(dòng)態(tài)測(cè)量的方法又不能充分表明高功率激光器本身的光束質(zhì)量。
因此,對(duì)于高功率激光器的實(shí)時(shí)準(zhǔn)確測(cè)量應(yīng)更多考慮采用動(dòng)態(tài)測(cè)量的方法,同時(shí),需要對(duì)動(dòng)態(tài)測(cè)量中光學(xué)元件熱形變對(duì)光束質(zhì)量因子M2的影響進(jìn)行測(cè)量計(jì)算并去除。波前分析法是一種基于波前探測(cè)器的動(dòng)態(tài)測(cè)量光束質(zhì)量的方法,由波前探測(cè)器復(fù)原待測(cè)激光復(fù)振幅,進(jìn)而獲取待測(cè)激光的波前和波前,光束質(zhì)量因子 M2利用角譜理論進(jìn)行計(jì)算,且計(jì)算過程嚴(yán)格按照ISO11146國際標(biāo)準(zhǔn)。對(duì)于光學(xué)元件受激光照射熱形變的影響,采用動(dòng)態(tài)干涉儀進(jìn)行測(cè)量,通過動(dòng)態(tài)干涉儀實(shí)時(shí)獲取測(cè)試光路中的波前畸變,再經(jīng)過分析計(jì)算,可以獲得測(cè)試光路中熱形變帶來的光束質(zhì)量因子M2測(cè)量誤差,以及校正后的光束質(zhì)量因子M2。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種校正高功率激光器M2測(cè)量系統(tǒng)熱形變的裝置及方法,可以得到光學(xué)元件熱形變帶來的激光光束質(zhì)量因子M2測(cè)量誤差,并對(duì)M2動(dòng)態(tài)測(cè)量的結(jié)果進(jìn)行校正,可對(duì)M2實(shí)時(shí)精確測(cè)量,提高M(jìn)2測(cè)量精度與速度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京理工大學(xué),未經(jīng)南京理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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