[發(fā)明專利]樹脂組合物、黑色矩陣、顯示裝置以及黑色矩陣的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810040725.1
• 申請(qǐng)日: 2018-01-16
• 公開（公告）號(hào): CN108333868B
• 公開（公告）日: 2022-08-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 阿部明生;田上騰彌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/004
• 分類號(hào): G03F7/004;G03F7/027;G02F1/1335
• 代理公司: 上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291
• 代理人: 侯莉;毛立群

1.一種樹脂組合物，用于形成黑色矩陣，其特征在于，包含

(A)堿可溶性樹脂、

(B)光聚合性化合物、

(C)光聚合引發(fā)劑、

(D)遮光材料和

(E)環(huán)氧化合物；

所述(A)堿可溶性樹脂包括在主鏈中包含芳香族環(huán)的樹脂；

所述(E)環(huán)氧化合物包括以下述式(E1)表示的環(huán)氧化合物，

【化學(xué)式1】

式(E1)中，OGly為環(huán)氧丙氧基，R^e1是鹵素原子或者碳原子數(shù)1～8的1價(jià)基團(tuán)，a為0～4的整數(shù)，b為括號(hào)內(nèi)的單元的重復(fù)數(shù)，在a為2以上的整數(shù)的情況下，苯環(huán)上相鄰的2個(gè)R^e1也可以相互地鍵合而形成環(huán)，R^e2為從多環(huán)烷烴除去2個(gè)氫原子而得到的2價(jià)基團(tuán)，或者以下述式(E1-1)表示的基團(tuán)，

【化學(xué)式2】

式(E1-1)中，OGly為環(huán)氧丙氧基，R^e3是選自由苯、萘、蒽、菲以及三聯(lián)苯構(gòu)成的組中的至少1個(gè)芳香族烴基，R^e4是鹵素原子或者碳原子數(shù)1～4的烷基，c為0，d為0～8的整數(shù)，R^e5為氫原子或者以下述式(E1-2)表示的基團(tuán)，

【化學(xué)式3】

式(E1-2)中，OGly為環(huán)氧丙氧基，R^e6是鹵素原子、碳原子數(shù)1～4的烷基或者苯基，e為0～4的整數(shù)；

所述以式(E1)表示的環(huán)氧化合物的平均分子量為800以上。

2.如權(quán)利要求1所述的樹脂組合物，其特征在于，所述(A)堿可溶性樹脂包括在其結(jié)構(gòu)中具有卡多結(jié)構(gòu)的樹脂(a-1)。

3.如權(quán)利要求1或者2所述的樹脂組合物，其特征在于，在所述式(E1)中，R^e2為從多環(huán)烷烴除去2個(gè)氫原子而得到的2價(jià)基團(tuán)或者以所述式(E1-1)表示的、所述c為0且所述R^e5為氫原子的2價(jià)基團(tuán)。

4.如權(quán)利要求1或者2所述的樹脂組合物，其特征在于，所述(A)堿可溶性樹脂包括苯酚酚醛清漆樹脂(a-2)或者環(huán)氧化合物(a-3a)與含有不飽和基團(tuán)的羧酸(a-3b)的反應(yīng)產(chǎn)物的、多元酸酐(a-3c)的加成物(a-3)。

5.如權(quán)利要求1或者2所述的樹脂組合物，其特征在于，將所述(A)堿可溶性樹脂所具有的活性氫基的總量(摩爾數(shù))記作Am，將所述(E)環(huán)氧化合物具有的環(huán)氧基的總量(摩爾數(shù))記作Em時(shí)，Am/Em在0.25以上且4.0以下的范圍內(nèi)。

6.如權(quán)利要求1或者2所述的樹脂組合物，其特征在于，在所述樹脂組合物的全部固態(tài)成分中，所述以式(E1)表示的環(huán)氧化合物的含量為0.5質(zhì)量％以上且10質(zhì)量％以下。

7.如權(quán)利要求1或者2所述的樹脂組合物，其特征在于，所述(D)遮光材料包括炭黑。

8.如權(quán)利要求1或者2所述的樹脂組合物，其特征在于，在使所述樹脂組合物固化而成的固化膜中，所述固化膜的體積電阻率為1.0×10¹⁰Ω·cm以上，所述固化膜的光學(xué)濃度(OD值)為2.5/μm以上。

9.一種黑色矩陣，其特征在于，由權(quán)利要求1～8的任一項(xiàng)所述的樹脂組合物固化而成。

10.一種顯示裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求9所述的黑色矩陣。

11.一種黑色矩陣的制造方法，其特征在于，包含以下工序：

通過(guò)涂布權(quán)利要求1～8的任一項(xiàng)所述的樹脂組合物形成涂膜的工序；

選擇位置對(duì)所述涂膜進(jìn)行曝光的工序；

使曝光后的所述涂膜顯影，并形成圖案化的固化膜的工序；

烘烤所述圖案化的固化膜的工序。