[發(fā)明專利]一種在真空條件下微米級顆粒與不同表面碰撞的實驗裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810038334.6
• 申請日: 2018-01-13
• 公開（公告）號: CN108318387A
• 公開（公告）日: 2018-07-24
• 發(fā)明（設計）人: 東明;李雪;王云萍;李素芬
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: G01N15/00
• 分類號: G01N15/00
• 代理公司: 大連星海專利事務所有限公司 21208
• 代理人: 花向陽;楊翠翠

1.一種在真空條件下微米級顆粒與不同表面碰撞的實驗裝置，它包括電源（8）、真空實驗艙（9）和高速攝像系統(tǒng)，其特征是：它還包括設置在真空實驗艙（9）中的顆粒供給系統(tǒng)和碰撞平臺（6c），所述真空實驗艙（9）采用透明結構，真空實驗艙（9）內(nèi)設有一個采用多個支柱（6b）連接上固定架（6a）和下固定支架（6e）的固定支架，真空實驗艙（9）內(nèi)腔通過管道連接真空泵（10）和真空壓力表（14）；所述顆粒供給系統(tǒng)設置在上固定架（6a）上，碰撞平臺（6c）通過固定底座（6d）設置在下固定支架（6e）上；所述顆粒供給系統(tǒng)包含依次連接的給料器（1）、電動球閥（2）、內(nèi)管（3）和外管（5），內(nèi)管（3）插入外管（5）中并用緊固件（4）固定，外管（5）固定在上固定架（6a）上；所述高速攝像系統(tǒng)包含設置在真空實驗艙（9）外的高速攝像機（12）和電腦（13）以及真空實驗艙（9）中的光源（11），所述電源（8）電連接真空實驗艙（9）中的電動球閥（2）和光源（11）；所述高速攝像機（12）、碰撞平臺（6c）的上平面與光源（11）設置在一條直線上。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種在真空條件下微米級顆粒與不同表面碰撞的實驗裝置，其特征是：所述外管（5）釆用一個螺母位于上固定架（6a）上方、另一個螺母位于上固定架（6a）下方把外管（5）固定在上固定架（6a）上。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種在真空條件下微米級顆粒與不同表面碰撞的實驗裝置，其特征是：所述內(nèi)管（3）采用插入外管（5）的長度來調(diào)節(jié)電動球閥（2）與碰撞平臺（6c）之間微米級顆粒在真空條件下的降落距離。