[發(fā)明專利]含上流反應區(qū)和產(chǎn)物氣液分離區(qū)的套筒型碳氫料加氫反應器系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810037395.0 | 申請日: | 2018-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN110013801A | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 何巨堂 | 申請(專利權)人: | 何巨堂 |
| 主分類號: | B01J8/20 | 分類號: | B01J8/20;B01J8/18;C10G1/08;C10G47/26;C10G47/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 471003 河南省洛陽*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應區(qū) 碳氫 分離器 加氫反應器系統(tǒng) 褐煤 直接液化 氫氣 產(chǎn)物氣 分離區(qū) 套筒 上流式反應區(qū) 主加氫反應器 加氫反應器 常規(guī)高壓 多級加氫 反應空間 分離功能 分離過程 加氫反應 快速反應 快速加氫 氣液混相 氫氣分壓 雜質氣體 組合設備 反應器 攜帶 煤加氫 液含率 高氣 加氫 降速 稀釋 羧基 逆流 占據(jù) 保留 外部 | ||
1.含上流反應區(qū)和產(chǎn)物氣液分離區(qū)的套筒型碳氫料加氫反應器系統(tǒng),其特征在于包括以下步驟:
在碳氫料加氫反應過程RU,在存在氫氣、液相烴同時可能存在固體顆粒的混相物料條件下,至少含有碳元素和氫元素的第一原料RUF1進行加氫反應RUR轉化為最終加氫反應產(chǎn)物RUP;回收最終加氫反應產(chǎn)物RUP;最終加氫反應產(chǎn)物RUP,為1路或2路或多路物料;
碳氫料加氫反應過程RU,加工包含第一原料RUF1的物料1ATF,設置基于第一原料RUF1的液料的串聯(lián)操作的至少2個反應級;
所述一個反應級,指的是包含碳氫料加氫反應步驟和該步驟氣液產(chǎn)物的氣液分離步驟的工藝過程;
在碳氫料加氫反應過程RU,第一加氫反應器1ARE系統(tǒng)為含上流反應區(qū)和產(chǎn)物氣液分離區(qū)的套筒型碳氫料加氫反應器系統(tǒng);第一加氫反應器1ARE設置內置式套筒1ARE-URD-ES,將第一加氫反應器1ARE的內部空間分割為:
①套筒1ARE-URD-ES的內部空間,稱為套筒內區(qū);
②套筒1ARE-URD-ES與反應器1ARE殼體之間的夾層空間,稱為夾層區(qū);
③反應器1ARE殼體內的上部氣相空間1ARE-VD,稱為氣相區(qū),排出氣體產(chǎn)物1ARE-VP;
第一加氫反應器1ARE的套筒內區(qū)和夾層區(qū),將其中之一用作上流式反應區(qū)1ARE-URD,另一個用作產(chǎn)物液體脫氣區(qū)1ARE-DLD;含第一原料RUF1的反應進料進入上流式反應區(qū)進行加氫反應轉化為反應產(chǎn)物1ARE-URD-P,反應產(chǎn)物1ARE-URD-P進入分離區(qū),氣相區(qū)1ARE-VD排出氣體產(chǎn)物1ARE-VP,產(chǎn)物液體脫氣區(qū)排出液體產(chǎn)物1ARE-L;至少一部分第一加氫反應器1ARE排出的液體產(chǎn)物1ARE-L,作為凈產(chǎn)物1ARE-LP進入后續(xù)加氫反應過程中。
2.根據(jù)權利要求1所述的反應器系統(tǒng),其特征在于:
至少一部分第一加氫反應器1ARE排出的液體產(chǎn)物1ARE-L,作為液料產(chǎn)物循環(huán)液1ARE-LR,返回第一加氫反應器1ARE的上流式反應區(qū)1ARE-URD循環(huán)加工。
3.根據(jù)權利要求2所述的反應器系統(tǒng),其特征在于:
至少一部分第一加氫反應器1ARE排出的液體產(chǎn)物1ARE-L,作為液料產(chǎn)物循環(huán)液1ARE-LR,返回第一加氫反應器1ARE的上流式反應區(qū)1ARE-URD循環(huán)加工,循環(huán)方式為使用循環(huán)液體增壓器,選自下列的1種或幾種的組合:
①為文丘里加壓器WDP;
文丘里加壓器WDP,動力介質為氫氣原料1AH1或漿液原料RUF1或混合原料;
②為屏蔽電機驅動的離心泵。
4.根據(jù)權利要求1所述的反應器系統(tǒng),其特征在于:
第一加氫反應器1ARE的套筒內區(qū)和夾層區(qū),將其中之一用作上流式反應區(qū)1ARE-URD,另一個用作產(chǎn)物液體脫氣區(qū)1ARE-DLD;
液體脫氣區(qū)1ARE-DLD,劃分為2個功能區(qū),上部為使用富氫氣氣體1BH的逆流反應區(qū),下部為液體脫氣區(qū)。
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