[發明專利]雙軸機構和半導體處理設備有效
| 申請號: | 201810035944.0 | 申請日: | 2018-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN110047790B | 公開(公告)日: | 2021-10-15 |
| 發明(設計)人: | 王福來 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;姜春咸 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 機構 半導體 處理 設備 | ||
1.一種雙軸機構,用于驅動工藝腔室內的傳片機構運動,其特征在于,所述雙軸機構包括內軸、外軸、升降組件和旋轉組件,其中,所述內軸套設在所述外軸內;
所述內軸的一端用于與所述傳片機構連接,另一端與所述升降組件可移動連接,以驅動所述傳片機構升降;
所述外軸的一端用于與所述傳片機構連接,另一端與所述旋轉組件可轉動連接,以驅動所述傳片機構轉動;
所述雙軸機構還包括吸收件,所述外軸通過所述吸收件與所述傳片機構連接,所述吸收件能夠吸收所述內軸的升縮量,以使得所述外軸沿軸向無相對移動。
2.根據權利要求1所述的雙軸機構,其特征在于,所述升降組件包括直線氣缸和升降轉接件,所述內軸通過所述升降轉接件與所述直線氣缸可移動連接。
3.根據權利要求1所述的雙軸機構,其特征在于,所述旋轉組件包括驅動電機和傳動組件,所述驅動電機和所述傳動組件可轉動連接,所述傳動組件與所述外軸可轉動連接。
4.根據權利要求3所述的雙軸機構,其特征在于,所述傳動組件包括減速機構和定角度旋轉機構,所述定角度旋轉機構包括槽輪主動輪和與所述槽輪主動輪相配合的槽輪從動輪,所述槽輪從動輪與所述外軸可轉動連接;
所述減速機構包括皮帶減速機,所述皮帶減速機包括皮帶主動輪和皮帶從動輪,所述皮帶主動輪與所述驅動電機的輸出軸可轉動連接,所述皮帶從動輪與所述槽輪主動輪可轉動連接;或,
所述減速機構包括齒輪減速機,所述齒輪減速機包括齒輪主動輪和齒輪從動輪,所述齒輪主動輪與所述驅動電機的輸出軸可轉動連接,所述齒輪從動輪與所述槽輪主動輪可轉動連接。
5.根據權利要求2所述的雙軸機構,其特征在于,所述升降轉接件包括轉接法蘭。
6.根據權利要求1所述的雙軸機構,其特征在于,所述吸收件包括焊接波紋管。
7.一種半導體處理設備,包括工藝腔室和位于所述工藝腔室內的傳片機構,其特征在于,還包括權利要求1至6中任意一項所述的雙軸機構,所述雙軸機構與所述傳片機構連接,以驅動所述傳片機構運動。
8.根據權利要求7所述的半導體處理設備,其特征在于,還包括位于所述工藝腔室底部的抽氣腔室;
所述外軸和所述內軸的一端均依次穿過所述抽氣腔室、所述工藝腔室至與所述傳片機構連接,所述外軸和所述內軸的另一端均位于所述抽氣腔室外部,且所述外軸通過磁流體密封件與所述抽氣腔室密閉連接。
9.根據權利要求8所述的半導體處理設備,其特征在于,還包括套設在所述外軸上的一對軸承,用于防止所述外軸沿徑向擺動;
其中一個所述軸承位于所述外軸與所述抽氣腔連接的位置,另一個所述軸承位于所述外軸的與所述旋轉組件相連的一端。
10.根據權利要求9所述的半導體處理設備,其特征在于,所述磁流體密封件內設有冷卻水路,所述冷卻水路用于為所述磁流體密封件降溫。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





