[發明專利]一種耐刮疏水減反膜的制備方法

有效

• 申請號: 201810034428.6
• 申請日: 2018-01-15
• 公開（公告）號: CN108455872B
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 寧波納諾特新材料科技有限公司
• 主分類號: C03C17/25
• 分類號: C03C17/25;C08J7/06
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理有限公司 33226
• 代理人: 謝瀟

1.一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，該疏水減反膜由雜化溶膠涂覆于透明基底制得，所述的雜化溶膠由經疏水改性的空心球SiO₂納米粒子與親水性無機納米粘結劑交聯雜化而成；所述的雜化溶膠通過以下步驟制備：

(1)采用正硅酸四乙酯作為前驅體硅源I制備空心球SiO₂納米粒子溶液，得到溶液I；

(2)調節步驟(1)得到的溶液I的pH值至0.1～5，得到溶液II；

(3)將含有一個或兩個相同或不同疏水官能團的硅氧烷作為前驅體硅源II加入步驟(2)得到的溶液II中，充分反應后，獲得經疏水改性的空心球SiO₂納米粒子溶液，作為溶液III；

(4)將親水性無機納米粘結劑作為前驅體硅源III加入步驟(3)得到的溶液III中，充分反應后，獲得所述的雜化溶膠。

2.根據權利要求1所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，所述的疏水減反膜的厚度為80～300nm，水接觸角≥90°。

3.根據權利要求1所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，所述的空心球SiO₂納米粒子的平均粒徑為20～100nm，平均壁厚為5～40nm。

4.根據權利要求1所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，所述的親水性無機納米粘結劑為無機硅氧烷的低聚物、至少兩種無機硅氧烷的共聚物或無機硅氧烷與有機硅氧烷的共聚物。

5.根據權利要求1所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，所述的溶液I的制備過程為：

①將一水合氨加至水中，得到一水合氨的水溶液，再將聚丙烯酸分散到該一水合氨的水溶液中，得到混合溶液I-1；

②依次將混合溶液I-1和前驅體硅源I加至乙醇中，得到混合溶液I-2；

③對混合溶液I-2進行攪拌，陳化6～24小時后進行24～48小時的回流，去除溶液中的氨水，即得到所述的溶液I；

上述溶液I的制備過程中先后使用的一水合氨、水、聚丙烯酸、前驅體硅源I、乙醇的摩爾比為：(18～90):(44～220):(0.008～0.04):1:(600～800)。

6.根據權利要求1所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，步驟(1)、步驟(3)和步驟(4)中所述的前驅體硅源I、前驅體硅源II和前驅體硅源III的摩爾比為1:(0.1～1):(0.1～2)。

7.根據權利要求1所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，步驟(3)中所述的疏水官能團為烷烴基團或含氟烷基團。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，在經過清洗的透明基底上涂覆所述的雜化溶膠，再在250～450℃熱處理0.5～2h，即得到所述的疏水減反膜。

9.根據權利要求8所述的一種耐刮疏水減反膜的制備方法，其特征在于，所述的透明基底為玻璃、石英或聚酰亞胺基底；所述的涂覆方法為浸漬-提拉、旋涂、滴涂、輥涂或噴涂。