[發(fā)明專利]腔式黑體輻射源在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810027426.4 | 申請日： | 2018-01-11 |
| 公開（公告）號： | CN110031116A | 公開（公告）日： | 2019-07-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 魏洋;王廣;范守善 | 申請（專利權）人： | 清華大學;鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | G01J5/52 | 分類號： | G01J5/52;G01J5/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀區(qū)清*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 黑體輻射腔 黑體輻射源 碳納米管復合材料 碳納米管 內表面 黑漆 直立 種腔 | ||
1.一種腔式黑體輻射源，該腔式黑體輻射源包括一黑體輻射腔，該黑體輻射腔具有一內表面，其特征在于，所述黑體輻射腔的內表面設置碳納米管復合材料，該碳納米管復合材料包括黑漆以及多個碳納米管，該多個碳納米管直立在所述黑漆中。
2.如權利要求1所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述多個碳納米管的軸向基本垂直于所述黑體輻射腔的內表面。
3.如權利要求1所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述碳納米管復合材料的表面設置有多個微結構。
4.如權利要求3所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述多個微結構的形狀為條形突起或點狀突起。
5.如權利要求4所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述條形突起的橫截面形狀為三角形、梯形、方形；所述點狀突起的橫截面形狀為三角形、梯形、方形。
6.如權利要求1所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述多個碳納米管在所述碳納米管復合材料中的含量為1％到50％。
7.如權利要求1所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述多個碳納米管在所述碳納米管復合材料中的含量為2％到10％。
8.如權利要求1所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述黑漆為Pyromark 1200黑漆或Nextel Velvet 811-21黑漆。
9.如權利要求1所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述腔式黑體輻射源包括一加熱元件，該加熱元件包括一碳納米管結構及間隔設置在該碳納米管結構表面的第一電極和第二電極，所述碳納米管結構包裹或纏繞在所述黑體輻射腔的外表面。
10.如權利要求9所述的腔式黑體輻射源，其特征在于，所述碳納米管結構包括多個首尾相連且擇優(yōu)取向排列的碳納米管，該碳納米管結構中的多個碳納米管從第一電極向第二電極的方向延伸。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于清華大學;鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司，未經清華大學;鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810027426.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：面源黑體
- 下一篇：腔式黑體輻射源以及腔式黑體輻射源的制備方法
