[發明專利]雙中心波長色散鏡對及其制備方法

在審

• 申請號: 201810023810.7
• 申請日: 2018-01-10
• 公開（公告）號: CN108254816A
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 王胭脂;陳瑞溢;陳宇;劉加;郭可升;朱曄新;王濤;朱美萍;張偉麗;王建國;趙嬌玲;孫建;齊紅基;易葵;邵建達
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00;C23C14/08;C23C14/34
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種雙中心波長色散鏡對，其特征在于是由兩個中心波長的群延遲色散振蕩的波峰和波谷正好相互抵消的第一色散鏡(1)和第二色散鏡(2)構成。

2.權利要求1所述的雙中心波長色散鏡對的制備方法，其特征在于該方法包括如下步驟：

1)根據所需制備色散鏡對的色散量、反射率和帶寬，選擇合適的高折射率材料、低折射率材料，所述的高折射率材料的折射率n_H和低折射率材料的折射率n_L為實際鍍膜實驗反演得到；

2)第一色散鏡(1)的設計：選擇合適的初始膜系的中心波長設為a，根據色散鏡對的要求設定色散量、放射率、帶寬目標值，經過膜系設計軟件優化得到滿足目標值的中心波長為a的第一色散鏡(1)的設計結果；

3)根據第一色散鏡(1)的設計結果選擇中心波長為b的第二色散鏡，即第二色散鏡(2)和第一色散鏡(1)的每一相應的膜層均存在相同厚度的偏移，使第二色散鏡(2)與第一色散鏡(1)在一定帶寬內色散振蕩的相位相反；

4)在制備中，通過控制基底與靶材的距離以及基底濺射角度調整離子束濺射鍍膜過程中的不均勻性，在夾具盤中找到兩個滿足雙中心波長a、b且厚度不均勻性的要求位置，在同一鍍膜周期內采用雙離子束濺射技術完成雙中心波長色散鏡對的制備。

3.根據權利要求2所述的雙中心波長色散鏡對的制備方法，其特征在于所述的高折射率材料為Nb₂O₅、Ta₂O₅或HfO₂，所述的低折射率材料為SiO₂。