[發明專利]一種圖像融合方法及裝置

在審

• 申請號: 201810022314.X
• 申請日: 2018-01-10
• 公開（公告）號: CN110021002A
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發明（設計）人: 楊新輝;宮睿;冉文波
• 申請（專利權）人: 青檸優視科技（北京）有限公司
• 主分類號: G06T5/50
• 分類號: G06T5/50
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種圖像融合方法，其特征在于，包括：

分別對預設的可見光圖像和紅外圖像進行結合了W系統的經驗模態分解處理，得到可見光內蘊模函數圖像、可見光殘差圖像、紅外內蘊模函數圖像以及紅外殘差圖像；

將所述可見光內蘊模函數圖像與所述紅外內蘊模函數圖像進行融合處理得到融合內蘊模函數圖像，以及將所述可見光殘差圖像與所述紅外殘差圖像進行融合處理得到融合殘差圖像；

對所述融合殘差圖像進行插值膨脹處理，并將處理后的融合殘差圖像與所述融合內蘊模函數圖像進行融合處理，得到融合圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述分別對預設的可見光圖像和紅外圖像進行結合了W系統的經驗模態分解處理，得到可見光內蘊模函數圖像、可見光殘差圖像、紅外內蘊模函數圖像以及紅外殘差圖像，包括：

對預設的可見光圖像進行經驗模態分解處理，得到第一內蘊模函數圖像和第一殘差圖像，以及對預設的紅外圖像進行經驗模態分解處理，得到第二內蘊模函數圖像和第二殘差圖像；

對所述第一殘差圖像進行W變換處理，并對處理結果的低頻四分之一部分進行低一級尺度的W逆變換處理，得到可見光殘差圖像，以及對所述第二殘差圖像進行W變換處理，并對處理結果的低頻四分之一部分進行低一級尺度的W逆變換處理，得到紅外殘差圖像；

對所述可見光殘差圖像進行插值膨脹處理得到第三殘差圖像，以及對所述紅外殘差圖像進行插值膨脹處理得到第四殘差圖像；

計算得到所述第三殘差圖像與所述第一殘差圖像的差值，以及計算得到所述第四殘差圖像與所述第二殘差圖像的差值；

對所述第三殘差圖像與所述第一殘差圖像的差值，與所述第一內蘊模函數圖像進行求和處理，得到可見光內蘊模函數圖像，以及對所述第四殘差圖像與所述第二殘差圖像的差值，與所述第二內蘊模函數圖像進行求和處理，得到紅外內蘊模函數圖像。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述將所述可見光內蘊模函數圖像與所述紅外內蘊模函數圖像進行融合處理得到融合內蘊模函數圖像，以及將所述可見光殘差圖像與所述紅外殘差圖像進行融合處理得到融合殘差圖像，包括：

分別計算得到所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的局部可見度，以及分別計算得到所述可見光內蘊模函數圖像和所述紅外內蘊模函數圖像的區域能量值；

根據所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的局部可見度，確定所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的對應像素點的灰度值，得到融合殘差圖像；以及根據所述可見光內蘊模函數圖像和所述紅外內蘊模函數圖像的區域能量值，確定所述可見光內蘊模函數圖像和所述紅外內蘊模函數圖像的對應像素點的灰度值，得到融合內蘊模函數圖像。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的局部可見度，確定所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的對應像素點的灰度值，包括：

分別對所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的局部可見度進行歸一化處理；

根據歸一化處理后的所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的局部可見度計算得到所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的匹配度；

對于所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的每一對應像素點，分別執行以下操作：

判斷所述對應像素點的匹配度是否大于設定的第一閾值；

如果所述對應像素點的匹配度大于設定的第一閾值，則通過絕對值取大規則確定所述對應像素點的灰度值；

如果所述對應像素點的匹配度不大于設定的第一閾值，則按照預設的計算方法，根據所述可見光殘差圖像和所述紅外殘差圖像的局部可見度計算得到所述對應像素點的灰度值。