[發(fā)明專利]偏光板及包括所述偏光板的液晶顯示器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810020940.5 | 申請日: | 2018-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN108287429B | 公開(公告)日: | 2021-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈大燮;吳泳;魏東鎬;李正浩;鄭容云;曺長鉉;朱榮賢 | 申請(專利權(quán))人: | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02B5/30;G02B1/14 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊文娟;臧建明 |
| 地址: | 韓國京畿道龍仁*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 偏光 包括 液晶顯示器 | ||
1.一種偏光板,其特征在于,包括依序堆疊的偏光膜及對比度改善光學(xué)膜,
其中所述對比度改善光學(xué)膜包括對比度改善層,
所述對比度改善層包括第一樹脂層及面對所述第一樹脂層的第二樹脂層,
所述第二樹脂層包括圖案化部分,所述圖案化部分具有光學(xué)圖案及設(shè)置在所述光學(xué)圖案之間的平面區(qū)段,
所述第二樹脂層滿足方程式1:
方程式1
0≤(所述第二樹脂層的最大厚度-所述光學(xué)圖案的最大高度)/(所述光學(xué)圖案的最大高度)≤1
所述偏光板具有由方程式2表示的1.00或大于1.00的對比率增益:
方程式2
對比率增益=側(cè)面相對對比率×正面相對對比率
其中所述正面相對對比率是包括所述對比度改善層的所述偏光板的正面對比率對不包括所述對比度改善層的偏光板的正面對比率的比率,且
所述側(cè)面相對對比率是包括所述對比度改善層的所述偏光板的側(cè)面對比率對不包括所述對比度改善層的偏光板的側(cè)面對比率的比率,
所述對比度改善光學(xué)膜在所述偏光膜的光出射表面上,
方程式1中的表達(dá)式(所述第二樹脂層的最大厚度-所述光學(xué)圖案的最大高度)的值為5微米或小于5微米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述光學(xué)圖案具有75°到90°的底角,且所述圖案化部分滿足方程式3
方程式3
1<P/W≤10
其中P是所述圖案化部分的節(jié)距(單位:微米)且W是所述光學(xué)圖案中的每一者的最大寬度(單位:微米)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述光學(xué)圖案是其中兩個相鄰的傾斜表面通過第一表面連接到彼此的梯形光學(xué)圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述光學(xué)圖案具有0.3到3.0的長寬比。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述第二樹脂層與所述第一樹脂層之間的折射率差異為0.05到0.20。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述第二樹脂層具有比所述第一樹脂層高的折射率。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述第一樹脂層具有1微米或大于1微米的最小厚度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述光學(xué)圖案具有15微米或小于15微米的最大高度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述第二樹脂層具有20微米或小于20微米的最大厚度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述第一樹脂層及所述第二樹脂層中的至少一者是自粘性的。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述對比度改善光學(xué)膜還包括保護(hù)層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的偏光板,其特征在于,所述保護(hù)層包括保護(hù)膜及保護(hù)涂層中的至少一者。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述偏光板還包括在所述對比度改善光學(xué)膜的光出射表面上的保護(hù)層及減反射膜中的至少一者。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光板,其特征在于,方程式1中的表達(dá)式(所述第二樹脂層的最大厚度-所述光學(xué)圖案的最大高度)的值為0微米,且所述光學(xué)圖案具有90°的底角。
15.一種液晶顯示器,其特征在于,包括根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一項所述的偏光板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





