[發明專利]倒金字塔絨面單晶硅片的制絨添加劑及其應用

有效

• 申請號: 201810018562.7
• 申請日: 2018-01-09
• 公開（公告）號: CN107955974B
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 楊立功;符黎明
• 申請（專利權）人: 常州時創能源股份有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10;C30B29/06;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.倒金字塔絨面單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，其各組分的質量百分含量為：非離子表面活性劑 0.5%～50%，陽離子表面活性劑 1%～60%，聚乙二醇 2%～10%，有機鹽 1%～20%，余量為水；

所述非離子表面活性劑為含烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、聚氧乙烯胺、烷基醇酰胺、乙醇胺、蔗糖酯中的一種或幾種；

所述陽離子表面活性劑為含脂肪胺鹽、乙醇胺鹽、季銨鹽型、咪唑啉、聚乙烯多胺鹽、嗎啉胍類、三嗪類衍生物中的一種或幾種；

所述有機鹽為醋酸鈉、乙酸吡啶鹽、乙醇鈉中的一種或幾種；

所述聚乙二醇的分子量為200～2000。

2.根據權利要求1所述的倒金字塔絨面單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，所述水為去離子水。

3.倒金字塔絨面單晶硅片的制絨液，其特征在于，其含有堿溶液和權利要求1或2所述的倒金字塔絨面單晶硅片的制絨添加劑，所述倒金字塔絨面單晶硅片的制絨添加劑與堿溶液的質量比為0.2～5:100，所述堿溶液為無機堿或有機堿的水溶液。

4.根據權利要求3所述倒金字塔絨面單晶硅片的制絨液，其特征在于，所述無機堿為氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銨中的一種或幾種；所述有機堿為四甲基氫銨、四乙基氫銨中的一種或兩種。

5.倒金字塔絨面單晶硅片的制絨方法，其特征在于，利用權利要求3或4所述的制絨液對單晶硅片進行表面制絨，在單晶硅片表面形成倒金字塔絨面。

6.根據權利要求5所述倒金字塔絨面單晶硅片的制絨方法，其特征在于，其具體步驟包括：

1）配置制絨添加劑：將質量百分比為0.5%～50%的非離子表面活性劑、1%～60%的陽離子表面活性劑、2%～10%的聚乙二醇、1%～20%的有機鹽加入到余量的水中，混合均勻配成制絨添加劑；

2）配置制絨液：將步驟1）制成的制絨添加劑加到堿溶液中，混合均勻配成制絨液；所述制絨添加劑與堿溶液的質量比為0.2～5:100；所述堿溶液為無機堿或有機堿的水溶液；

3）制絨：將單晶硅片浸入步驟2）制得的制絨液中進行表面制絨，制絨溫度為75～90℃，制絨時間為500～1500s，在單晶硅片表面形成倒金字塔絨面。