[發明專利]立式周向循環連續式氣相沉積設備

在審

• 申請號: 201810018496.3
• 申請日: 2018-01-09
• 公開（公告）號: CN108277471A
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發明（設計）人: 郎文昌;王向紅;劉偉
• 申請（專利權）人: 溫州職業技術學院
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35;C23C16/54
• 代理公司: 溫州名創知識產權代理有限公司 33258
• 代理人: 陳加利

1.一種立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：包括主腔室、進料腔室及進料口開合系統、工藝腔室及氣相沉積組件、可定點自轉的轉架系統、真空系統及真空管道，真空系統將主腔室、進料腔室及工藝腔室通過各自獨立的真空管道進行真空處理，進料腔室及工藝腔室的真空管道通過波紋管連接于主腔室及真空系統，進料腔室及工藝腔室通過氣動升降機構驅動進料腔室及工藝腔室升降，將進料腔室及工藝腔室在與主腔室聯通的狀態及獨立真空腔室的狀態之間切換，氣相沉積組件側向安裝于各工藝腔室，并通過可收縮的波紋管道連接于真空室外。

2.氣相沉積組件為磁控濺射模塊、多弧離子鍍模塊、離子清洗模塊、離子輔助化學氣相沉積模塊及化學氣相沉積模塊的其中一種，實現不同的鍍膜功能，轉架系統包括轉盤、雙轉盤轉動機構、轉盤轉動機構驅動轉盤公轉或定點自轉，將待鍍工件在進料腔室及工藝腔室之間傳遞及定點自轉鍍膜。

3.根據權利要求書1所述根據權利要求書1所述的立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：轉盤轉動機構驅動轉盤水平轉動設置于主腔室內，所述的進料腔室及兩個以上工藝腔室位于轉盤上方并沿轉盤周向等距排布，所述的進料腔室及工藝腔室底部設置有朝向轉盤的密封口，所述的氣動升降機構驅動進料腔室及工藝腔室升降，所述的進料腔室與轉盤接觸時將密封口封閉，并構成進料腔室，所述的工藝腔室與轉盤接觸時將密封口封閉，并構成工藝腔室，所述的轉盤上方用于放置待鍍工件，并將待鍍工件在進料腔室及各工藝腔室之間傳遞，所述的進料口開合系統設置有將待鍍工件從外界直接放入進料腔室的聯通密封機構，所述的氣相沉積組件可拆卸的安裝于工藝腔室且各氣相沉積組件的功能不同，所述的進料腔室設置有獨立的真空管道連接于真空系統，將進料腔室真空處理或恢復大氣壓，所述的工藝腔室設置有獨立的真空管道連接于真空系統，形成穩定工藝腔室工作氣壓的工藝真空系統。

4.根據權利要求書1所述的立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：所述的聯通密封機構包括基部、伸縮波紋管及聯通口，所述的進料腔室設置有聯通口，所述的基部為環形構件并貫穿于主腔室的腔室壁，所述的基部位于腔室外側的端部設置有密封門板，所述的伸縮波紋管一端固定于基部位于腔室內側的端部，另一端與聯通口相對應，所述的基部設置有驅動伸縮波紋管與聯通口相對應的端部密封貼合聯通口或遠離聯通口的伸縮機構。

5.根據權利要求書1所述的立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：所述的真空系統包括真空波紋管及放氣波紋管，所述的真空波紋管一端延伸至進料腔室并與進料腔室聯通，另一端延伸至主腔室壁并設置有調節口，所述的調節口設置有外接抽氣系統，所述的外接抽氣系統對進料腔室進行真空處理，所述的放氣波紋管一端延伸至進料腔室并與進料腔室聯通，另一端延伸至主腔室壁并設置有放氣口，所述的放氣口設置有放氣機構。

6.根據權利要求書1所述的立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：所述的轉盤分別與進料腔室及各工藝腔室對應設置有安裝待鍍工件且具有自轉功能的掛具組件。

7.根據權利要求書5所述的立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：各所述的掛具組件底部設置有與轉盤轉動配合的轉軸，所述的主腔室設置有與轉盤同軸轉動的自轉齒盤及驅動自轉齒盤轉動的自轉電機，各所述的轉軸外周設置有與自轉齒盤相嚙合的齒形部件。

8.根據權利要求書1所述的立式周向循環連續式氣相沉積設備，其特征在于：所述的氣相沉積組件為磁控濺射模塊或多弧離子鍍模塊或離子清洗模塊或離子輔助化學氣相沉積模塊或化學氣相沉積模塊。