[發明專利]激光發射器、光電設備和深度相機

在審

• 申請號: 201810012769.3
• 申請日: 2018-01-06
• 公開（公告）號: CN108107662A
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發明（設計）人: 白劍
• 申請（專利權）人: 廣東歐珀移動通信有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;H04N5/225
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

本發明公開了一種激光發射器、光電設備和深度相機。激光發射器包括半導體襯底和設置在襯底上的發光元件陣列。發光元件陣列包括規則分布的多個發光元件，多個發光元件劃分為多組，每組發光元件被單獨且同時驅動以發射光束。本發明實施方式的激光發射器中，多個發光元件規則分布能夠形成高均勻性的激光圖案，每組發光元件被單獨且同時驅動以發射光束能夠提高激光圖案的不相關性，從而提高獲取該激光圖案的深度圖像的速度及精度。

技術領域

本發明涉及光學領域，特別涉及一種激光發射器、光電設備和深度相機。

背景技術

諸如激光投影儀等光電設備被用來向目標空間發射設定的光學圖案，在基于光學的三維測量領域，光電設備得到了廣泛應用。光電設備一般由光源、準直元件以及衍射光學元件組成，其中光源可以是單個邊發射激光光源，也可以是由多個垂直腔面發射激光組成的面陣激光光源等。基于單個邊發射激光光源的光電設備能夠發射不相關性較高的激光圖案，但其體積會隨著輸出功率的增大而明顯增大，且該激光圖案的均勻性較差；而基于由至少兩個垂直腔面發射激光光源的光電設備可以以更小的體積發射出相同功率且具有更高均勻性的激光圖案，但該激光圖案的不相關性較低，而激光圖案的不相關性的高低直接影響著其深度圖像精度的高低及獲取深度圖像速度的快慢。

發明內容

本發明實施方式提供一種激光發射器、光電設備和深度相機。

本發明實施方式的激光發射器包括：

半導體襯底；和

設置在所述襯底上的發光元件陣列，所述發光元件陣列包括規則分布的多個發光元件，多個所述發光元件劃分為多組，每組所述發光元件被單獨且同時驅動以發射光束。

在某些實施方式中，多組所述發光元件包括第一組發光元件和第二組發光元件，所述第一組發光元件為規則分布或不規則分布，所述第二組發光元件為規則分布或不規則分布。

在某些實施方式中，所述發光元件包括點光源發光器件。

在某些實施方式中，每組所述發光元件用于被驅動以發射不同光強的光束。

在某些實施方式中，每組所述發光元件用于被驅動以發射不同波長的光束。

在某些實施方式中，每組所述發光元件具有不同的發光面積。

本發明實施方式的光電設備包括：

基板；和

上述任一實施方式所述的激光發射器，所述激光發射器設置在所述基板上。

本發明實施方式的光電設備包括：

基板；

上述任一實施方式所述的激光發射器，所述激光發射器設置在所述基板上；

準直元件，所述準直元件設置在所述基板的靠近所述激光發射器的一側；和

衍射光學元件，所述準直元件位于所述激光發射器與所述衍射光學元件之間，所述衍射光學元件用于投射由所述發光元件發射的光束以生成激光圖案。

在某些實施方式中，所述準直元件的數量為一個，一個所述準直元件與所述發光元件陣列對應；或

所述準直元件的數量為多個，多個所述準直元件劃分為多組，每組所述準直元件與每組所述發光元件對應。

在某些實施方式中，所述準直元件的數量為一個，一個所述準直元件與所述發光元件陣列對應，所述準直元件與對應的所述發光元件陣列間隔；或

所述準直元件的數量為多個，多個所述準直元件劃分為多組，每組所述準直元件與每組所述發光元件對應，所述準直元件分別與對應的所述發光元件集成在所述襯底上。