[發明專利]有機晶體管、陣列基板、顯示裝置及相關制備方法有效
| 申請號: | 201810012058.6 | 申請日: | 2018-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN108183165B | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發明(設計)人: | 張驥;胡威威;陳亮;高錦成;惠官寶 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/05 | 分類號: | H01L51/05 |
| 代理公司: | 北京風雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人: | 朱親林 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 晶體管 陣列 顯示裝置 相關 制備 方法 | ||
1.一種有機晶體管的制備方法,其特征在于,包括:
在有機絕緣層上制備光刻膠并顯影形成用于容納有機單晶的限制阱;
在所述光刻膠形成的所述限制阱中,依次加入有機半導體溶液和正交溶劑;
通過退火使得所述正交溶劑揮發,誘導有機單晶在所述限制阱中定向生長;
清除所述光刻膠并將得到的有機單晶層作為有源層;
所述制備光刻膠之前還包括在所述有機絕緣層上制備有機聚合物。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述在所述有機絕緣層上制備有機聚合物的步驟還包括:
依次對所述有機聚合物表面進行親水處理和疏水處理。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,在所述顯影形成用于容納有機單晶的限制阱之后且在所述加入有機半導體溶液之前還包括:
若所述有機半導體溶液具有親水性,則對未被所述光刻膠覆蓋的所述有機聚合物的表面進行親水處理;
若所述有機半導體溶液具有疏水性,則對未被所述光刻膠覆蓋的所述有機聚合物的表面依次進行親水處理和疏水處理。
4.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述制備有機聚合物包括:采用基于聚硅氧烷的有機聚合材料制備得到所述有機聚合物。
5.根據權利要求1-2任一項所述的制備方法,其特征在于,所述有機絕緣層采用聚丙烯氰、聚丙烯氧化物、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或多種材料制備。
6.一種有機晶體管,其特征在于,所述有機晶體管包括有機絕緣層以及設置于所述有機絕緣層上的有機單晶層;其中,所述有機單晶層為有源層;所述有機單晶層與所述有機絕緣層之間還包括有機聚合物;所述有機單晶層根據權利要求1-5任一項所述制備方法制備得到。
7.根據權利要求6所述的有機晶體管,其特征在于,所述有機聚合物為基于聚硅氧烷的有機聚合物。
8.根據權利要求6或7所述的有機晶體管,其特征在于,所述有機絕緣層包括:聚丙烯氰、聚丙烯氧化物、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或多種。
9.一種陣列基板,其特征在于,所述陣列基板包括權利要求6-8任一項所述的有機晶體管。
10.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括權利要求9所述的陣列基板。
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H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
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H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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H01L51-54 .. 材料選擇





