[發明專利]一種無絨處為邊框加粗的方孔的提花絲絨及其織造方法

有效

• 申請號: 201810009942.4
• 申請日: 2018-01-05
• 公開（公告）號: CN108018640B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 朱惠賢;孟彪;莊一美;張國華;柏榮良;汪的優;王純;沈偉農;湯超;許國棟;李建芳;包海偉
• 申請（專利權）人: 浙江英諾威紡織有限公司
• 主分類號: D03D21/00
• 分類號: D03D21/00;D03D11/00;D03D27/04
• 代理公司: 杭州天欣專利事務所(普通合伙) 33209
• 代理人: 陳紅

本發明提供一種無絨處為邊框加粗的方孔的提花絲絨，屬于絲絨技術領域。上層第一緯紗、上層第三緯紗、上層第四緯紗、上層第六緯紗為細緯紗，上層第二緯紗、上層第五緯紗為粗緯紗，下層第一緯紗、下層第三緯紗、下層第四緯紗、下層第六緯紗為細緯紗，下層第二緯紗、下層第五緯紗為粗緯紗，連結線在有絨處是與上層緯紗交織返到下層緯紗交織然后不斷往返連結織造經割絨形成有絨處的絨頭，連結線在無絨處，第一連結線、第三連結線只和下層緯紗交織，第二連結線、第四連結線又只和上層緯紗交織，經割絨，第一連結線、第三連結線形成下層基布粗經，第二連結線、第四連結線形成上層基布粗經。本發明由于稠密的絨頭和粗框的方孔在同一款織物上，視覺新鮮。

技術領域

本發明涉及一種絲絨，尤其涉及一種無絨處為邊框加粗的方孔的提花絲絨及其織造方法，屬紡織技術領域。

背景技術

絲絨屬于高端紡織品，隨著物質的豐富，人們追求美觀也愈來愈豐富多彩，一種爛花絲絨其無絨處的小孔襯托出絨的細膩，以及能時隱時現絨背美景，深受人們喜愛，但需二種原料組成，還需酸堿處理，會污染環境，還有一種提花絲絨，在無絨處需將絨經移去，才能顯示出小孔，這種將絨經移去顯示小孔的方法，也由于絨經變成碎屑也會污染環境，且增加了工序和成本。因此，在環保日益重視的今天，能否有既有絨、又有孔，且不污染環境的提花絲絨，人們期待這種提花絲絨的問世。

發明內容

本發明的目的是為滿足人們的希望，提供一種環保的、且無絨處為邊框加粗的方孔的提花絲絨及其織造方法。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種無絨處為邊框加粗的方孔的提花絲絨，包括上層基布、下層基布和連結線，所述上層基布是由上層經紗、上層緯紗交織而成，所述上層經紗又是由上層第一經紗、上層第二經紗、上層第三經紗、上層第四經紗組成，所述上層緯紗又是由上層第一緯紗、上層第二緯紗、上層第三緯紗、上層第四緯紗、上層第五緯紗、上層第六緯紗組成，其中，上層第一緯紗、上層第三緯紗、上層第四緯紗、上層第六緯紗為細緯紗，上層第二緯紗、上層第五緯紗為粗緯紗，所述下層經紗又是由下層第一經紗、下層第二經紗、下層第三經紗、下層第四經紗組成，所述下層緯紗又是由下層第一緯紗、下層第二緯紗、下層第三緯紗、下層第四緯紗、下層第五緯紗、下層第六緯紗組成，其中，下層第一緯紗、下層第三緯紗、下層第四緯紗、下層第六緯紗為細緯紗，下層第二緯紗、下層第五緯紗為粗緯紗，所述的連結線由第一連結線、第二連結線、第三連結線、第四連結線組成，并且比所述的上層經紗下層經紗粗，所述連結線在有絨處是與上層緯紗交織返到下層緯紗交織然后不斷往返連結織造經割絨形成有絨處的絨頭，所述的連結線在無絨處，第一連結線、第三連結線只和下層緯紗交織，第二連結線、第四連結線又只和上層緯紗交織，經割絨，第一連結線、第三連結線形成下層基布粗經，第二連結線、第四連結線形成上層基布粗經。

一種無絨處為邊框加粗的方孔的提花絲絨的織造方法，包括以下步驟：

第一步，整經

將上層第一經紗、下層第一經紗、上層第二經紗、下層第二經紗、上層第三經紗、下層第三經紗、上層第四經紗、下層第四經紗依次順序整經，整在一個織軸上，將第一連結線、第二連結線、第三連結線、第四連結線安放在筒子架上；

第二步，穿綜插筘

將上層第一經紗、下層第一經紗、第一連結線、第二連結線、上層第二經紗、下層第二經紗共計六根依次穿綜并插入第一筘齒內，將上層第三經紗、下層第三經紗、第三連結線、第四連結線、上層第四經紗、下層第四經紗共計六根，依次穿綜并插入第二筘齒內，依次循環穿綜插筘；

第三步，提綜打緯

1.在有絨處

第一梭：

將上層第一經紗、上層第三經紗往上提，

將下層第二經紗、下層第四經紗往上提，