[發(fā)明專利]一種3-12μm ZnS基底光學(xué)紅外增透膜及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810009762.6
• 申請日: 2018-01-05
• 公開（公告）號: CN108330440B
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫建坤;羅玉萍
• 申請（專利權(quán)）人: 昆明凱航光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/18;C23C14/30;C23C14/22;C23C14/34;G02B1/115
• 代理公司: 蘇州中合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32266
• 代理人: 龍濤

1.一種3-12μm ZnS基底光學(xué)紅外增透膜，其特征在于，鍍制在ZnS光學(xué)零件表面，該增透膜的結(jié)構(gòu)為第一層膜、第二層膜和第三層膜，其中第一層膜鍍制在ZnS表面，第一層膜為Ge膜、ZnSe膜或Si中的一種，第二層膜為YF₃膜或YbF₃中的一種，第三層膜為DLC膜，所述的第一層膜的厚度為λ/16-λ/2，第二層膜的厚度為λ/8-λ/2，第三層膜的厚度為λ/8-λ。

2.一種制備權(quán)利要求1所述3-12μm ZnS基底光學(xué)紅外增透膜的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)采用離子濺射法以0.2-1.0nm/s的速率在ZnS基底表面濺射第一層膜，濺射時間10-20min；

2)再在第一層膜上以0.5-1.0nm/s的速率沉積第二層膜，濺射時間5-30min；

3)再在第二層膜上制備第三層膜，濺射時間10-60min。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備3-12μm ZnS基底光學(xué)紅外增透膜的方法，其特征在于，鍍膜前的ZnS光學(xué)零件先用丙酮清洗后，再用去離子水沖洗2-3遍，鍍膜前用分析純級酒精浸泡12h后取出。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備3-12μm ZnS基底光學(xué)紅外增透膜的方法，其特征在于，鍍膜前還包括將ZnS光學(xué)元件置于離子束濺射鍍膜機內(nèi)，用700-900eV的Ar離子束進行轟擊5min。

5.一種ZnS光學(xué)零件，其特征在于，ZnS光學(xué)零件具有A、B兩面，其A面鍍有權(quán)利要求1所述的增透膜或權(quán)利要求2-4任意一項方法制備的增透膜，B面鍍有雙層增透膜，該雙層增透膜的第一層膜為Ge，第二層膜為ZnS膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的ZnS光學(xué)零件，其特征在于雙層增透膜由λ/4Ge膜和λ/8ZnS膜構(gòu)成。