[發明專利]一種納米級氧化鎵真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法

在審

• 申請號: 201810009002.5
• 申請日: 2018-01-04
• 公開（公告）號: CN108264127A
• 公開（公告）日: 2018-07-10
• 發明（設計）人: 沈煒
• 申請（專利權）人: 嘉興市眾盛環?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32;B01J23/08;B01J35/10;C02F101/36
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所(普通合伙) 33213
• 代理人: 吳秉中

1.一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于

由以下步驟組成：

1）將水和乙二胺以一定的比例進行混合，將鎵鹽加入上述混合液中配制一定濃度的鎵鹽溶液，并將pH調節至堿性；

2）將步驟1）制得的鎵鹽溶液置于水熱反應釜中，密封后放置于恒溫干燥箱中，以恒定的溫度加熱，反應一定時間后，取出反應釜冷卻至室溫，將反應釜內產物離心得到沉淀物，用去離子水洗滌，所得沉淀物在40-80℃烘箱中干燥后得到納米級β-Ga₂O₃前驅物備用；

3）將步驟2）制得的前驅物置于馬弗爐中，在氮氣氣氛下，以恒定的升溫速率升溫至250-1200℃，恒溫焙燒一定時間即可得到納米級β-Ga₂O₃材料，材料經研磨過篩網后即得納米級氧化鎵光催化劑；

4）將含全氟辛酸污染物的廢水倒入光催化反應器中，以0.05-1g/L的用量加入步驟3）制得的納米級β-Ga₂O₃光催化劑，氧氣經過布氣裝置均勻進入反應器，打開發射185nm真空紫外線的低壓汞燈作為光源，避光反應10-200min，定時取樣檢測。

2.如權利要求1所述的一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于步驟1）中水與乙二胺比例為體積比為1:10-100：1；所述的鎵鹽為硝酸鎵或氯化鎵中的任一種，混合液中活性組分Ga含量為0.01mol/L-0.5mol/L。

3.如權利要求1所述的一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于步驟1）中以氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣、氨水中的一種或一種以上為堿源，調節混合液pH為8-11。

4.如權利要求1所述的一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于步驟2）中所述的加熱溫度為50-200℃，反應時間為0.5-10h，干燥時間為2-8h。

5.如權利要求1所述的一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于步驟3）中恒定升溫速率為1-5℃/min，恒溫焙燒時間為1-5h，研磨后的材料過400目篩網。

6.如權利要求1所述的一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于步驟4）中處理廢水中的全氟辛酸含量為5-200mg/L，通氣量為5-30ml/（min·L）。

7.如權利要求1所述的一種納米級氧化稼真空紫外光催化降解全氟辛酸的方法，其特征在于步驟4）中光催化反應器外層設置循環水保溫層，紫外光燈管采用石英套管與反應液隔離。