[發(fā)明專利]流動(dòng)蒸氣壓力設(shè)備及相關(guān)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780096808.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111316073B | 公開(公告)日: | 2022-10-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J.C.霍林斯沃思;M.A.巴特勒;J.A.利普利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 高準(zhǔn)公司 |
| 主分類號(hào): | G01F1/74 | 分類號(hào): | G01F1/74;G01F1/84;G01F15/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 鄒松青;劉茜 |
| 地址: | 美國(guó)科*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 流動(dòng) 蒸氣 壓力 設(shè)備 相關(guān) 方法 | ||
1.一種確定流體的蒸氣壓力的方法,包括如下步驟:
提供具有計(jì)量電子器件的儀表,其中,所述儀表包括流量計(jì)和密度計(jì)中的至少一者;
使工藝流體流動(dòng)通過(guò)所述儀表;
測(cè)量所述工藝流體的壓力;
利用閥調(diào)整所述工藝流體的所述壓力直到達(dá)到單相/兩相邊界為止;以及
確定處于所述單相/兩相邊界下的所述工藝流體的流動(dòng)蒸氣壓力,其中,在所述工藝流體是單相的情況下,調(diào)整所述工藝流體的所述壓力直到達(dá)到所述單相/兩相邊界為止的步驟包括:降低定位在所述儀表上游的閥的壓力,以及在所述工藝流體已經(jīng)包含一些蒸氣的情況下,調(diào)整所述工藝流體的所述壓力直到達(dá)到所述單相/兩相邊界為止的步驟包括:升高定位在所述儀表下游的閥的壓力;
其中,所述方法還包括如下中的一者:用測(cè)得的驅(qū)動(dòng)增益來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在;通過(guò)測(cè)量所述流體的密度來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在;以及用測(cè)得的驅(qū)動(dòng)增益和測(cè)得的密度的組合來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,包括如下步驟:
測(cè)量所述工藝流體的溫度;以及
由所述溫度和所述流動(dòng)蒸氣壓力計(jì)算雷德蒸氣壓力。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,其中,由所述溫度和所述流動(dòng)蒸氣壓力計(jì)算所述雷德蒸氣壓力的步驟包括:使用根據(jù)所述溫度的所述雷德蒸氣壓力來(lái)參考被存儲(chǔ)在所述計(jì)量電子器件中的雷德蒸氣壓力值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,其中,被存儲(chǔ)在所述計(jì)量電子器件中的所述雷德蒸氣壓力值包括查找表。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,其中,被存儲(chǔ)在所述計(jì)量電子器件中的所述雷德蒸氣壓力值由曲線計(jì)算得到。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,包括:用測(cè)得的驅(qū)動(dòng)增益來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,包括:通過(guò)測(cè)量所述流體的密度來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的確定流體的蒸氣壓力的方法,包括:用測(cè)得的驅(qū)動(dòng)增益和測(cè)得的密度的組合來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在。
9.一種用于確定工藝流體的流動(dòng)蒸氣壓力的系統(tǒng)(300),其包括:
包括流量計(jì)和密度計(jì)中的至少一者的儀表(5);
與所述儀表(5)流體連通的壓力調(diào)整器(308);
壓力傳感器(312);
與所述儀表(5)和所述壓力傳感器(312)通信的計(jì)量電子器件(20),其中,所述計(jì)量電子器件(20)被構(gòu)造成:
接收測(cè)得的壓力;
控制所述壓力調(diào)整器(308)以利用閥調(diào)整所述工藝流體的所述壓力直到達(dá)到單相/兩相邊界為止;以及
確定處于所述單相/兩相邊界下的所述工藝流體的所述流動(dòng)蒸氣壓力,
在所述工藝流體是單相的情況下,調(diào)整所述工藝流體的所述壓力直到達(dá)到所述單相/兩相邊界為止的步驟包括:降低定位在所述儀表上游的閥的壓力,以及在所述工藝流體已經(jīng)包含一些蒸氣的情況下,調(diào)整所述工藝流體的所述壓力直到達(dá)到所述單相/兩相邊界為止的步驟包括:升高定位在所述儀表下游的閥的壓力;
其中,所述計(jì)量電子器件(20)還包括如下中的一者:用測(cè)得的驅(qū)動(dòng)增益來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在;通過(guò)測(cè)量所述流體的密度來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在;以及用測(cè)得的驅(qū)動(dòng)增益和測(cè)得的密度的組合來(lái)確定所述工藝流體中夾帶氣體的存在。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于高準(zhǔn)公司,未經(jīng)高準(zhǔn)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780096808.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01F 容積、流量、質(zhì)量流量或液位的測(cè)量;按容積進(jìn)行測(cè)量
G01F1-00 測(cè)量連續(xù)通過(guò)儀表的流體或流動(dòng)固體材料的流量或質(zhì)量流量
G01F1-05 .應(yīng)用機(jī)械效應(yīng)
G01F1-56 .應(yīng)用電或磁效應(yīng)
G01F1-66 .通過(guò)測(cè)量電磁波或其他波的頻率、相位移或傳播時(shí)間,例如,超聲波流量計(jì)
G01F1-68 .應(yīng)用熱效應(yīng)
G01F1-704 .應(yīng)用標(biāo)記區(qū)域或液流內(nèi)存在的不均勻性,例如應(yīng)用一液體參數(shù)統(tǒng)計(jì)性地發(fā)生的變化
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





