[發(fā)明專利]光波導(dǎo)調(diào)制器及光收發(fā)裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780096388.1 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111279253B | 公開(公告)日: | 2021-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王志仁;鄧舒鵬;劉磊 | 申請(專利權(quán))人: | 華為技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/035 | 分類號(hào): | G02F1/035 |
| 代理公司: | 深圳市深佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 夏歡 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波導(dǎo) 調(diào)制器 收發(fā) 裝置 | ||
一種光波導(dǎo)調(diào)制器,包括:基板(10);位于基板(10)第一表面的光波導(dǎo)(20),光波導(dǎo)(20)包括光波導(dǎo)本體(21)及位于光波導(dǎo)本體(21)側(cè)壁上并向兩側(cè)延伸的多個(gè)凸起單元(22);位于光波導(dǎo)(20)背離基板(10)一側(cè)的石墨烯層(30),石墨烯層(30)至少覆蓋光波導(dǎo)(20);位于光波導(dǎo)本體(21)側(cè)壁上的多個(gè)凸起單元(22)沿第一預(yù)設(shè)方向(X)排布,第一預(yù)設(shè)方向(X)平行于光波導(dǎo)(20)中光信號(hào)的傳輸方向。光波導(dǎo)調(diào)制器可降低光信號(hào)在光波導(dǎo)(20)中的傳輸速度,在經(jīng)過相同長度的光波導(dǎo)(20)時(shí),提高光波導(dǎo)(20)中的光信號(hào)與石墨烯層(30)的交互作用時(shí)間,提高石墨烯層(30)的光吸收效率,在石墨烯層(30)對光波導(dǎo)(20)中的光信號(hào)的吸收量相同的情況下,縮短光波導(dǎo)調(diào)制器的長度,降低光波導(dǎo)調(diào)制器的RC時(shí)間常數(shù),增大光波導(dǎo)調(diào)制器的電光帶寬。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及光信號(hào)調(diào)制技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種光波導(dǎo)調(diào)制器及光收發(fā)裝置。
背景技術(shù)
由于石墨烯具有優(yōu)秀的光電特性,近年來,以石墨烯為基礎(chǔ)的光波導(dǎo)調(diào)制器在光通信系統(tǒng)中的應(yīng)用越來越廣泛。需要說明的是,雖然石墨烯具有高理論電帶寬,但由于石墨烯光波導(dǎo)調(diào)制器的RC時(shí)間常數(shù)較高,導(dǎo)致石墨烯電吸收調(diào)制器的電光帶寬難以提升,限制了石墨烯光波導(dǎo)調(diào)制器的發(fā)展。
發(fā)明內(nèi)容
第一方面,本申請實(shí)施例提供了一種光波導(dǎo)調(diào)制器,包括:
基板;
位于所述基板第一表面的光波導(dǎo),所述光波導(dǎo)包括光波導(dǎo)本體以及位于所述光波導(dǎo)本體側(cè)壁上并向兩側(cè)延伸的多個(gè)凸起單元;
位于所述光波導(dǎo)背離所述基板一側(cè)的石墨烯層,所述石墨烯層至少覆蓋所述光波導(dǎo);
其中,位于所述光波導(dǎo)本體側(cè)壁上的多個(gè)所述凸起單元沿第一預(yù)設(shè)方向排布,所述第一預(yù)設(shè)方向平行于所述光波導(dǎo)中光信號(hào)的傳輸方向。
本申請實(shí)施例所提供的光波導(dǎo)調(diào)制器,通過在所述光波導(dǎo)本體的側(cè)壁上形成多個(gè)凸起單元,來降低光信號(hào)在所述光波導(dǎo)中的傳輸速度,可以在經(jīng)過相同長度的光波導(dǎo)時(shí),提高所述光波導(dǎo)中的光信號(hào)與所述石墨烯層的交互作用時(shí)間,增大所述石墨烯層對所述光波導(dǎo)中光信號(hào)的吸收量,提高所述石墨烯層的光吸收效率,從而在所述石墨烯層對所述光波導(dǎo)中的光信號(hào)的吸收量相同的情況下,縮短光波導(dǎo)調(diào)制器的長度,降低所述光波導(dǎo)調(diào)制器的時(shí)間常數(shù),而所述光波導(dǎo)調(diào)制器的時(shí)間常數(shù)與所述光波導(dǎo)調(diào)制器的電光帶寬成反比,因此,本申請實(shí)施例所提供的光波導(dǎo)調(diào)制器可以增大所述光波導(dǎo)調(diào)制器的電光帶寬。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,所述凸起單元包括位于所述光波導(dǎo)本體第一側(cè)壁上的第一凸起結(jié)構(gòu)和位于所述光波導(dǎo)本體第二側(cè)壁上的第二凸起結(jié)構(gòu),其中,所述第一側(cè)壁和所述第二側(cè)壁相對,所述第一凸起結(jié)構(gòu)和所述第二凸起結(jié)構(gòu)相對;所述光波導(dǎo)本體包括對應(yīng)所述凸起單元所在區(qū)域的第一本體以及位于相鄰所述凸起單元之間的第二本體。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,不同所述凸起單元在第二預(yù)設(shè)方向上的寬度相同,任意兩個(gè)相鄰所述凸起單元之間的第二本體在所述第二預(yù)設(shè)方向上的寬度相同;其中,所述第二預(yù)設(shè)方向平行于所述第一表面,且垂直于所述第一預(yù)設(shè)方向。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,各所述第一本體在所述第二預(yù)設(shè)方向上的寬度相同。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,各所述第一本體沿所述第一預(yù)設(shè)方向的長度相同,各所述第二本體沿所述第一預(yù)設(shè)方向的長度相同。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,在垂直于所述基板第一表面方向上,各所述凸起單元的厚度相同,以使得所述光波導(dǎo)背離所述基板一側(cè)的表面為平整表面,從而便于所述石墨烯層的形成。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,所述石墨烯層僅覆蓋所述光波導(dǎo)。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,所述石墨烯層同時(shí)覆蓋所述光波導(dǎo)和所述基板的第一表面。
在一種實(shí)現(xiàn)方式中,還包括:
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





