[發明專利]在調光膜上刻畫圖案的方法

有效

• 申請號: 201780096340.0
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN111492306B
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: 胡康軍
• 申請（專利權）人: 深圳市柔宇科技股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，包括以下步驟：

A、制備調光膜；

B、將調光膜進行通電，使得調光膜呈現透明狀態；

C、對通電狀態的調光膜進行激光蝕刻，激光在調光膜的導電層上刻畫出預先設定好的圖案；

所述步驟A中，包括以下子步驟：

A1、在遮光環境下，取用調制好的調光膜液晶加熱至20℃-50℃，攪拌均勻；

A2、將調光膜液晶遮光靜置，直至調光膜液晶呈現透明狀態；

A3、將兩張導電薄膜間隔設置，二者之間留有間隙，將調光膜液晶涂布在兩張導電薄膜之間的間隙中；

A4、對兩張導電薄膜進行輥壓貼合，輥壓后導電薄膜所形成的兩個導電層之間間距為10～25μm；

A5、貼合后的調光膜在紫外光下進行光固化或加熱固化。

2.據權利要求1所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述子步驟A1中，所述調光膜液晶選擇在紅外波段、紫外波段或綠光波段透過率高的聚合物液晶，且調光膜液晶的透過率小于導電薄膜的透過率。

3.根據權利要求2所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述調光膜液晶由原料向列型液晶、丙烯酸酯混合物和預聚物制成。

4.根據權利要求3所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述調光膜液晶還包括光引發劑。

5.根據權利要求4所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述丙烯酸酯混合物為甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯中的至少一種；所述預聚物為聚乙烯或聚丙烯。

6.根據權利要求1所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述子步驟A3中，所述導電薄膜為透明導電薄膜，選用銦錫氧化物透明導電薄膜、納米銀導電薄膜、高分子聚合物導電薄膜或碳納米管導電薄膜中的一種。

7.根據權利要求1所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述步驟A中的子步驟A4進一步的包括：在導電薄膜表面鍍有至少一層的特殊波段截止的透明導電材料截止層，所述特殊波段截止是指紅外波段、紫外波段或綠光波段截止。

8.根據權利要求7所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述透明導電材料截止層選用的材料為MgF2、Al2O3、Ti3O5、Si02或SiNx。

9.根據權利要求8所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述透明導電材料截止層在導電薄膜表面鍍多層，由高折射率和低折射率的材料交替疊合形成。

10.根據權利要求1所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述步驟B中，通電電壓為20～30V。

11.根據權利要求1所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述步驟C中，包括以下子步驟：

C1、選用適用激光波長；

C2、調整激光聚焦面聚焦在調光膜的導電薄膜上；

C3、根據設定圖案進行激光蝕刻，去除導電薄膜上對應圖案位置的導電層，形成圖案；

C4、蝕刻完成后，分別對圖案或非圖案區進行通電，通過圖案或非圖案區透明狀態，來檢查蝕刻圖案完整性。

12.根據權利要求11所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述子步驟C1中，所述激光波長選用紫外波段355nm、綠光波段532nm或紅外波段1064nm。

13.根據權利要求11所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述子步驟C4中，給調光膜的圖案區域通電，電壓達到透明態閾值時，圖案區域呈現透明狀態；

或者給非圖案區域通電，電壓達到透明態閾值時，圖案區域呈現霧態，非圖案區域呈現透明狀態。

14.根據權利要求1所述的在調光膜上刻畫圖案的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在步驟A中，還包括子步驟A6：在固化后，在導電薄膜外粘接有用于保護導電薄膜的基層。