[發(fā)明專利]檢測(cè)對(duì)表面的觸摸輸入

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780095736.3
• 申請(qǐng)日: 2017-08-24
• 公開（公告）號(hào): CN111201506A
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: I·庫(kù)什尼爾;O·德加尼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘋果公司
• 主分類號(hào): G06F3/046
• 分類號(hào): G06F3/046;G06F3/041;G01S13/87
• 代理公司: 北京市漢坤律師事務(wù)所 11602
• 代理人: 魏小薇;吳麗麗

1.一種用于檢測(cè)對(duì)表面的觸摸輸入的裝置(10)，所述裝置(10)包括：

至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)，所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件被配置為發(fā)射射頻頻譜中的電磁輻射；

至少一個(gè)雷達(dá)接收器部件(14)，所述至少一個(gè)雷達(dá)接收器部件被配置為接收由對(duì)所述表面執(zhí)行所述觸摸輸入的對(duì)象反射的所述電磁輻射的一部分；以及

控制組件(16)，所述控制組件被配置為：

接收與由所述至少一個(gè)雷達(dá)接收器部件(14)接收的所述電磁輻射的所述一部分相關(guān)的信息，并且

基于與由所述至少一個(gè)雷達(dá)接收器部件(14)接收的所述電磁輻射的所述一部分相關(guān)的所述信息來(lái)檢測(cè)對(duì)所述表面的所述觸摸輸入。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述控制組件(16)被配置為基于所接收的所述電磁輻射的所述一部分相對(duì)于所發(fā)射的電磁輻射的相移來(lái)檢測(cè)對(duì)所述表面的所述觸摸輸入。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為在毫米波頻帶中發(fā)射所述電磁輻射。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述控制組件(16)被配置為基于與由所述至少一個(gè)雷達(dá)接收器部件(14)接收的所述電磁輻射的所述一部分相關(guān)的所述信息來(lái)確定所述對(duì)象相對(duì)于所述表面的位置，并且其中所述控制組件(16)被配置為經(jīng)由接口提供與所述對(duì)象的所述位置相關(guān)的信息。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為利用所述電磁輻射來(lái)掃掠區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置(10)，其中所述控制組件(16)被配置為基于檢測(cè)到的觸摸輸入來(lái)指定待由所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)掃掠的所述區(qū)域。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置(10)，其中所述控制組件(16)被配置為基于以下分組中的至少一個(gè)元素來(lái)控制所述掃掠的屬性：檢測(cè)到的對(duì)所述表面的觸摸次數(shù)、觸摸檢測(cè)的期望的空間分辨率或時(shí)間分辨率、以及待由檢測(cè)到的觸摸控制的應(yīng)用程序的類型。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述控制組件(16)被配置為在第一時(shí)間間隔內(nèi)檢測(cè)所述對(duì)象存在于所述表面附近，并且其中所述控制組件(16)被配置為在第二時(shí)間間隔內(nèi)確定所述對(duì)象相對(duì)于所述表面的位置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置(10)，其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為在所述第一時(shí)間間隔期間利用所述電磁輻射來(lái)掃掠第一區(qū)域，并且其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為在所述第二時(shí)間間隔期間掃掠第二區(qū)域，其中所述第一區(qū)域大于所述第二區(qū)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置(10)，其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為在所述第一時(shí)間間隔期間使用第一較低時(shí)間分辨率來(lái)掃掠區(qū)域，并且其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為在所述第二時(shí)間間隔期間使用第二較高時(shí)間分辨率來(lái)掃掠區(qū)域。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置(10)，其中所述控制組件(16)被配置為在所述第一時(shí)間間隔內(nèi)估計(jì)所述對(duì)象相對(duì)于所述表面的位置，并且其中所述控制組件(16)被配置為在所述第二時(shí)間間隔內(nèi)基于所估計(jì)的所述對(duì)象的位置來(lái)指定待由所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)掃掠的區(qū)域。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)包括至少一個(gè)相控陣列天線，并且其中所述至少一個(gè)雷達(dá)發(fā)射器部件(12)被配置為使用所述至少一個(gè)相控陣列天線利用所述電磁輻射來(lái)掃掠區(qū)域。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(10)，其中所述至少一個(gè)相控陣列天線的電磁輻射圖案為沿著所述表面延伸的定向圖案。