[發明專利]真空脫氣設備和精煉方法在審
| 申請號: | 201780094956.4 | 申請日: | 2017-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN111094598A | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發明(設計)人: | 金旭;金星茁 | 申請(專利權)人: | 株式會社POSCO |
| 主分類號: | C21C7/10 | 分類號: | C21C7/10;C21C7/00;F27D7/02;F27D7/06 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 王艷江;李春艷 |
| 地址: | 韓國慶*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 脫氣 設備 精煉 方法 | ||
1.一種真空脫氣設備,包括:
真空槽,所述真空槽具有位于其中的可減壓空間;
多個浸漬管,所述多個浸漬管與所述真空槽連通并且所述多個浸漬管能夠浸入位于布置于所述真空槽下方的容器內的待處理的材料中;
多個噴嘴,所述多個噴嘴被安裝在所述浸漬管中的任一個浸漬管的內壁上;
氣體供應器,所述氣體供應器連接至所述多個噴嘴并且所述氣體供應器能夠供應氣體;以及
控制器,所述控制器配置成對所述氣體供應器進行控制,使得所述氣體供應器不對稱地向所述多個噴嘴供應所述氣體。
2.根據權利要求1所述的真空脫氣設備,其中,所述控制器對所述氣體供應器進行控制,使得在保持供應給所述多個噴嘴的所述氣體的總量的同時,能夠獨立地控制供應給至少一個噴嘴或至少一個噴嘴組的氣體的量。
3.根據權利要求1所述的真空脫氣設備,其中,
所述多個噴嘴沿周向布置并且所述多個噴嘴以單獨的方式或以成組的方式連接至所述氣體供應器,并且
所述控制器對所述氣體供應器進行控制,使得供應給一些噴嘴或一些噴嘴組的氣體的量不同于供應給其余噴嘴或其余噴嘴組的氣體的量。
4.根據權利要求2所述的真空脫氣設備,其中,
所述多個浸漬管包括上升管和下降管,
所述上升管的內壁被分割成多個分割表面,并且
所述多個噴嘴形成為使得在所述分割表面中的每個分割表面上安裝有至少一個噴嘴,并且所述多個噴嘴構造成形成多個噴嘴組。
5.根據權利要求4所述的真空脫氣設備,其中,所述多個分割表面在所述上升管的所述內壁上彼此周向間隔開,并且所述多個分割表面被各自沿豎向方向延伸的區域線分割。
6.根據權利要求5所述的真空脫氣設備,其中,
所述區域線以90°的間隔彼此間隔開并且所述區域線將所述上升管的所述內壁分割成四個部分,并且
所述控制器執行控制,使得總氣體量的40%至50%被供應給安裝于所述分割表面中的任一個分割表面上的所述噴嘴組。
7.根據權利要求6所述的真空脫氣設備,其中,所述控制器執行控制,使得所述總氣體量的50%至60%被均勻分配到安裝于各個其余分割表面上的所述噴嘴組。
8.根據權利要求6所述的真空脫氣設備,其中,所述控制器執行控制,使得供應有所述總氣體量的40%至50%的所述噴嘴組周期性地或連續地改變。
9.一種精煉方法,包括:
將容納待處理的材料的容器定位在真空槽的下方;
將連接至所述真空槽的多個浸漬管浸入到所述待處理的材料中;
對所述真空槽的內部進行減壓,將氣體供應到所述浸漬管中的任一個浸漬管中,并且使所述待處理的材料回流;以及
對氣體供應進行控制,以便將所述氣體不對稱地供應到所述浸漬管中的任一個浸漬管中。
10.根據權利要求9所述的精煉方法,其中,
在執行所述待處理的材料的所述回流的同時,從所述待處理的材料去除氣體成分,
在所述待處理的材料的所述回流期間執行氣體供應的所述控制,并且通過增加所述待處理的材料中的湍流成分來提高所述待處理的材料中的夾雜物的生長速度。
11.根據權利要求9所述的精煉方法,其中,當其中供應有所述氣體的所述浸漬管被稱為上升管時,氣體供應的所述控制包括:
保持供應給多個噴嘴的總氣體量,所述多個噴嘴在所述上升管的內壁上周向地安裝成相互間隔開;以及
獨立調整供應給至少一個噴嘴或至少一個噴嘴組的氣體的量。
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