[發明專利]形成下層膜的組合物、圖案形成方法及形成圖案的下層膜形成用共聚物在審
| 申請號： | 201780092950.3 | 申請日： | 2017-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN110869851A | 公開（公告）日： | 2020-03-06 |
| 發明（設計）人： | 服部貴美子;森田和代 | 申請（專利權）人： | 王子控股株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/11 | 分類號： | G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 趙曦 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 形成 下層 組合 圖案 方法 共聚物 | ||
【權利要求書】：
1.一種形成下層膜的組合物，其為下層膜形成用，所述下層膜用于圖案形成，
所述形成下層膜的組合物包含共聚物及有機溶劑，
所述共聚物具有聚合部a及聚合部b，
所述聚合部a具有糖衍生物部，
所述糖衍生物部為五碳糖衍生物部及六碳糖衍生物部中的至少一者，
所述聚合部b不具有糖衍生物部。
2.如權利要求1所述的形成下層膜的組合物，其中，所述糖衍生物部為纖維素衍生物部、半纖維素衍生物部或木寡糖衍生物部。
3.如權利要求1或2所述的形成下層膜的組合物，其進而包含糖衍生物。
4.如權利要求1至3中任一項所述的形成下層膜的組合物，其進而包含交聯性化合物。
5.如權利要求1至4中任一項所述的形成下層膜的組合物，其進而包含抗光反射劑。
6.如權利要求1至5中任一項所述的形成下層膜的組合物，其中，在用于所述圖案形成時，包括導入金屬的步驟。
7.一種圖案形成方法，其包括如下步驟：使用權利要求1至6中任一項所述的形成下層膜的組合物而形成下層膜。
8.如權利要求7所述的圖案形成方法，其包括向所述下層膜導入金屬的步驟。
9.一種形成圖案的下層膜形成用共聚物，其具有聚合部a及聚合部b，所述聚合部a具有糖衍生物部，
所述糖衍生物部為五碳糖衍生物部及六碳糖衍生物部中的至少一者，
所述聚合部b不具有糖衍生物部。
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