[發(fā)明專利]有機(jī)EL設(shè)備及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780091851.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110731126B | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鳴瀧陽(yáng)三;岸本克彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 堺顯示器制品株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H05B33/04 | 分類號(hào): | H05B33/04;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/06;H05B33/10;H05B33/22 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 日本國(guó)大*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) el 設(shè)備 及其 制造 方法 | ||
1.一種有機(jī)EL設(shè)備,其特征在于,包含:
基板;
驅(qū)動(dòng)電路層,包含形成于所述基板上的多個(gè)TFT、分別與所述多個(gè)TFT的任一個(gè)連接的多條柵極總線以及多條源極總線、多個(gè)端子、連接所述多個(gè)端子和所述多條柵極總線或所述多條源極總線的任一個(gè)的多條拉出布線;
無(wú)機(jī)保護(hù)層,形成于所述驅(qū)動(dòng)電路層上,至少露出所述多個(gè)端子;
有機(jī)平坦化層,形成于所述無(wú)機(jī)保護(hù)層上;
有機(jī)EL元件層,形成于所述有機(jī)平坦化層上,包含分別與所述多個(gè)TFT的任一個(gè)連接的多個(gè)有機(jī)EL元件;以及
薄膜密封結(jié)構(gòu),以覆蓋所述有機(jī)EL元件層的方式形成,包含第一無(wú)機(jī)屏障層、與所述第一無(wú)機(jī)屏障層的上表面相接的有機(jī)屏障層、與所述有機(jī)屏障層的上表面相接的第二無(wú)機(jī)屏障層,所述有機(jī)屏障層形成在被由所述第一無(wú)機(jī)屏障層和所述第二無(wú)機(jī)屏障層直接接觸的無(wú)機(jī)屏障層接合部包圍的區(qū)域內(nèi);其中
在從所述基板的法線方向看時(shí),在形成了所述無(wú)機(jī)保護(hù)層的區(qū)域內(nèi),形成有所述有機(jī)平坦化層,在形成了所述有機(jī)平坦化層的區(qū)域內(nèi),配置有所述多個(gè)有機(jī)EL元件,所述薄膜密封結(jié)構(gòu)的外緣,與所述多條拉出布線交叉,且存在于所述有機(jī)平坦化層的外緣和所述無(wú)機(jī)保護(hù)層的外緣之間;
在所述多條拉出布線之上所述無(wú)機(jī)保護(hù)層和所述第一無(wú)機(jī)屏障層直接接觸的部分中,所述第一無(wú)機(jī)屏障層的與所述多條拉出布線的線寬度方向平行的剖面的形狀中的側(cè)面的圓錐角未滿90°。
2.如權(quán)利要求第1項(xiàng)所述的有機(jī)EL設(shè)備,其特征在于,所述第一無(wú)機(jī)屏障層的所述側(cè)面的所述圓錐角是未滿70°。
3.如權(quán)利要求第1或2項(xiàng)所述的有機(jī)EL設(shè)備,其特征在于,所述有機(jī)平坦化層由具有感光性的樹脂形成。
4.如權(quán)利要求第1或2項(xiàng)所述的有機(jī)EL設(shè)備,其特征在于,所述有機(jī)平坦化層由聚酰亞胺形成。
5.一種制造方法,其特征在于,是權(quán)利要求第1至4項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的有機(jī)EL設(shè)備的制造方法;包括:
工序A,在所述基板上形成所述驅(qū)動(dòng)電路層;
工序B,在所述驅(qū)動(dòng)電路基板上形成所述無(wú)機(jī)保護(hù)層;
工序C,在所述無(wú)機(jī)保護(hù)層上形成所述有機(jī)平坦化層;
工序D,將所述有機(jī)平坦化層加熱到200℃以上的溫度;以及
工序E,在所述加熱工序之后,在所述有機(jī)平坦化層上形成所述有機(jī)EL元件層。
6.如權(quán)利要求第5項(xiàng)所述的制造方法,其特征在于,還包括:在所述工序C之后,且在所述工序D之前,形成覆蓋所述有機(jī)平坦化層的正型的光致抗蝕劑膜的工序C1、以及將所述光致抗蝕劑膜整面曝光后,進(jìn)行顯像,藉此去除所述光致抗蝕劑膜的工序C2。
7.如權(quán)利要求第6項(xiàng)所述的制造方法,其特征在于,在所述工序C1和所述工序C2之間,還包括:保管或搬運(yùn)形成了所述光致抗蝕劑膜的所述基板的工序。
8.如權(quán)利要求第5至7項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的制造方法,其特征在于,包含:
工序F,在所述工序E之后,在形成了所述多個(gè)有機(jī)EL元件的有源區(qū)域選擇性地形成所述第一無(wú)機(jī)屏障層;
工序G,在所述工序F之后,將所述基板配置在腔室內(nèi),向所述腔室內(nèi)供給蒸氣或霧狀的光固化性樹脂;
工序H,是在所述第一無(wú)機(jī)屏障層上使光固化性樹脂凝結(jié)的工序,以在所述圓錐角未滿90°的所述第一無(wú)機(jī)屏障層的部分之上,不使所述光固化性樹脂存在的方式,使所述光固化性樹脂凝結(jié);
工序I,在所述工序H之后,對(duì)已被凝結(jié)的所述光固化性樹脂照射光,藉此形成由光固化樹脂構(gòu)成的所述有機(jī)屏障層。
9.如權(quán)利要求第5至7項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的制造方法,其特征在于,包括:
工序F,在所述工序E之后,在形成了所述多個(gè)有機(jī)EL元件的有源區(qū)域選擇性地形成所述第一無(wú)機(jī)屏障層;
工序G,在所述工序F之后,將所述基板配置在腔室內(nèi),向所述腔室內(nèi)供給蒸氣或霧狀的光固化性樹脂;
工序H,在所述第一無(wú)機(jī)屏障層上使所述光固化性樹脂凝結(jié),形成液狀的膜;
工序I,對(duì)所述光固化性樹脂的所述液狀的膜照射光,藉此形成光固化樹脂層;
工序J,將所述光固化樹脂層部分地進(jìn)行灰化,藉此形成所述有機(jī)屏障層。
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