[發明專利]包含氮化硼納米板的納米復合材料及其制備方法

有效

• 申請號: 201780091641.4
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN110709447B
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 洪淳亨;柳浩振;柳承澯
• 申請（專利權）人: 韓國科學技術院
• 主分類號: C08G83/00
• 分類號: C08G83/00;C01B21/064;C08L87/00;C08J3/24;C08G73/02;C08K3/38;B82Y5/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 鄭天松

1.一種包含氮化硼納米板的納米復合材料，包括：

氮化硼納米板；

包括與所述氮化硼納米板結合的側鏈結構的高分子官能團；以及

包括從由NH基團、NH₂基團、OH基團及COOH基團組成的官能團組中選擇的一種或以上的官能團的線性聚合物，其中，所述官能團對與所述高分子官能團結合的所述氮化硼納米板單體進行交聯。

2.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述高分子官能團是包括從由NH基團、NH₂基團、OH基團及COOH基團組成的官能團組中選擇的一種或以上的官能團的高分子材料。

3.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述高分子官能團包括從由超支化聚縮水甘油醚、支鏈聚甘油、超支化聚乙烯亞胺及支鏈聚乙烯亞胺組成的組中選擇的一種或以上。

4.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

當所述高分子官能團包括從超支化聚縮水甘油醚或支鏈聚甘油中選擇的一種或以上時，

所述線性聚合物包括高分子材料，所述高分子材料包括NH基團、NH₂基團或兩者的官能團。

5.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述線性聚合物包括從由明膠、膠原蛋白、聚乙烯亞胺、1,6-尼龍、聚乙烯胺及聚氨苯乙烯組成的組中選擇的一種或以上。

6.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

當所述高分子官能團包括超支化聚乙烯亞胺或支鏈聚乙烯亞胺時，

所述線性聚合物包括高分子材料，所述高分子材料包括OH基團、COOH基團或兩者的官能團。

7.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述線性聚合物包括從由聚乙烯醇、聚乳酸、聚乙交酯、聚已酸內酯、聚丁二酸丁二醇酯及聚對苯二甲酸乙二醇酯組成的組中選擇的一種或以上。

8.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述納米復合材料作為模擬自然結構，其形狀為結合所述高分子官能團的所述氮化硼納米板單體的層狀聚集體。

9.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

結合所述高分子官能團的所述氮化硼納米板單體之間的交聯通過從由氫鍵、靜電相互作用及范德華鍵組成的組中選擇的一種或以上來進行。

10.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

相對于所述氮化硼納米板單體的總重量，所述高分子官能團占0.1重量％至50重量％。

11.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

相對于所述納米復合材料的總重量，所述線性聚合物占0.1重量％至50重量％。

12.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述氮化硼為六方晶體結構。

13.根據權利要求1所述的包含氮化硼納米板的納米復合材料，

所述氮化硼納米板的厚度為10nm以下。

14.一種包含氮化硼納米板的納米復合材料的制備方法，包括以下步驟：

對氮化硼進行機械剝離并制備氮化硼納米板；

通過自組裝將超支化聚縮水甘油醚官能團結合到所述氮化硼納米板，從而形成氮化硼納米板單體；

將所述形成的氮化硼納米板單體與包括從由NH基團、NH₂基團、OH基團及COOH基團組成的官能團組中選擇的一種或以上的官能團的線性聚合物進行混合并形成混合分散液；

真空過濾所述混合分散液。