[發(fā)明專利]放療設(shè)備的控制裝置及放射治療系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780090808.5
• 申請日: 2017-07-31
• 公開（公告）號: CN110678223B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李金升
• 申請（專利權(quán)）人: 西安大醫(yī)集團股份有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11138
• 代理人: 謝冬寒

一種放療設(shè)備的控制方法、裝置(200,500)及放射治療系統(tǒng)(400)，屬于醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域，包括驅(qū)動模塊(230)、控制模塊(210)和輸入模塊(220)，驅(qū)動模塊(230)和控制模塊(210)分別與輸入模塊(220)連接，輸入模塊(220)用于獲取第一弧形軌跡(01)。驅(qū)動模塊(230)用于驅(qū)動放射治療頭(300,420)按照第一速度沿著第一弧形軌跡(01)運動。控制模塊(210)用于控制放射治療頭(300,420)發(fā)出射線，并形成射野，射野包括至少一個子射野，第一速度小于預設(shè)速度閾值。放射治療頭(300,420)做圓周運動，放射治療頭(300,420)移動的圓周軌跡包括至少兩個第一弧形軌跡(01)，任意兩個第一弧形軌跡(01)不連續(xù)。解決了相關(guān)技術(shù)放射治療頭(300,420)運動軌跡可能無法滿足治療需求，且使用靈活性較低的問題，滿足了臨床上針對不同治療進行治療計劃的特制需求，并提高了使用靈活性，用于放射治療。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種放療設(shè)備的控制方法、裝置及放射治療系統(tǒng)。

背景技術(shù)

在現(xiàn)代醫(yī)學中，放射治療是治療惡性腫瘤的一種重要手段。放射治療是指采用高能放射線殺死腫瘤，目前主要利用放射治療頭進行放射治療。該放射治療頭一般包括射線源和射野準直系統(tǒng)，多葉準直器是射野準直系統(tǒng)的一部分。示例的，射線源可以為加速器。加速器用于發(fā)出X射線，多葉準直器用于產(chǎn)生滿足要求的射野，射野指的是X射線照射的面積和形狀，定義了射線照射的一個范圍。加速器發(fā)出的X射線經(jīng)過多葉準直器產(chǎn)生的射野照射至腫瘤病灶區(qū)，在該過程中，X射線也會照射至腫瘤病灶區(qū)周圍的正常組織器官上。

在容積調(diào)強拉弧治療(Volumetric Modulated Arc Therapy，VMAT)技術(shù)中，放射治療頭可以在360度的角度范圍內(nèi)采用X射線對腫瘤病灶區(qū)進行旋轉(zhuǎn)照射。為了滿足輻射劑量分布要求，也即是，為了滿足腫瘤病灶區(qū)的輻射劑量較高，腫瘤病灶區(qū)周圍的正常組織器官的輻射劑量較低的要求，放射治療頭在旋轉(zhuǎn)過程中，加速器持續(xù)發(fā)出X射線，多葉準直器產(chǎn)生的射野的形狀和大小不斷發(fā)生變化。

在實現(xiàn)本申請的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)上述技術(shù)至少存在以下問題：

由于放射治療頭在360度的角度范圍內(nèi)采用X射線對腫瘤病灶區(qū)進行旋轉(zhuǎn)照射，而不能在固定的角度做定向治療，所以運動軌跡可能無法滿足多方位的治療需求。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實施例提供了一種放療設(shè)備的控制方法、裝置及放射治療系統(tǒng)。所述技術(shù)方案如下：

根據(jù)本申請實施例的第一方面，提供一種放療設(shè)備的控制裝置，包括驅(qū)動模塊、控制模塊和輸入模塊，所述驅(qū)動模塊和所述控制模塊分別與所述輸入模塊連接，

所述輸入模塊用于獲取第一弧形軌跡，所述第一弧形軌跡是根據(jù)患者的醫(yī)學圖像確定的；

所述驅(qū)動模塊用于驅(qū)動放射治療頭按照第一速度沿著所述第一弧形軌跡運動，所述第一速度小于預設(shè)速度閾值；

所述控制模塊用于在所述放射治療頭沿著所述第一弧形軌跡運動時，控制所述放射治療頭發(fā)出射線，并形成射野，所述射野包括至少一個子射野；

其中，所述放射治療頭做圓周運動，所述放射治療頭移動的圓周軌跡包括至少兩個所述第一弧形軌跡，任意兩個所述第一弧形軌跡不連續(xù)。

可選的，所述放射治療頭移動的圓周軌跡還包括第二弧形軌跡，所述第一弧形軌跡和所述第二弧形軌跡交替排布，

所述驅(qū)動模塊還用于驅(qū)動所述放射治療頭按照第二速度沿著所述第二弧形軌跡運動，所述第二速度大于或等于所述預設(shè)速度閾值；

所述控制模塊還用于在所述放射治療頭沿著所述第二弧形軌跡運動時，控制所述放射治療頭發(fā)出射線，并形成射野，所述射野包括至少一個子射野；

或者，所述控制模塊用于在所述放射治療頭沿著所述第二弧形軌跡運動時，控制所述放射治療頭停止發(fā)出射線。