[發明專利]密封構造

有效

• 申請號: 201780090561.7
• 申請日: 2017-05-11
• 公開（公告）號: CN110651142B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 山本隆啟;荊超;南暢;上田彰;法月祐樹
• 申請（專利權）人: 株式會社華爾卡
• 主分類號: F16J15/18
• 分類號: F16J15/18;E21B10/22
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種密封構造，其具備環狀的密封件，該密封件在軸與殼體之間的滑動間隙中配置于在所述殼體形成的密封槽中，將高壓側和低壓側隔開，其中，

所述殼體具有低壓側面部和槽底部，在與所述軸的軸向平行且通過所述軸的中心線的假想平面中的所述密封構造的剖面中，該低壓側面部構成所述密封槽的靠所述低壓側的側面且沿著與所述軸向正交的方向延伸，該槽底部構成所述密封槽的底面且在所述剖面中沿著所述軸向延伸，

所述密封件包含主體部和第1突出部，該主體部具有與所述低壓側面部相接觸的底面，該第1突出部自所述主體部突出且具有以隨著靠近所述低壓側而靠近所述軸的方式延伸的形狀，

所述第1突出部具有頂端部，該頂端部設于所述第1突出部的最接近所述低壓側的位置，

在所述密封件配置于所述密封槽且被所述軸和所述槽底部按壓的狀態下，所述第1突出部具有與所述軸相接觸的接觸區域，

所述頂端部設于比所述接觸區域接近所述低壓側的位置，

所述剖面中的所述接觸區域在所述接觸區域的最接近所述高壓側的位置具有上端接觸部，

所述剖面中的所述第1突出部在所述主體部與所述第1突出部之間的分界線上的最接近所述低壓側面部的位置具有邊界部，

所述邊界部設于比所述上端接觸部接近所述低壓側的位置，

在將通過所述上端接觸部且同所述軸向正交的直線與通過所述邊界部且同所述軸向正交的直線之間的距離設為X的情況下，滿足0.55mm≤X≤0.68mm，

所述密封件還包含第2突出部，該第2突出部自所述主體部突出且與所述槽底部相接觸。

2.根據權利要求1所述的密封構造，其中，

所述剖面中的所述主體部具有相對于沿著所述軸向的第2中心線對稱的形狀，

所述第1突出部和所述第2突出部相對于所述第2中心線對稱。