[發(fā)明專利]半導(dǎo)體模塊、半導(dǎo)體模塊的制造方法以及電力變換裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780089024.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110462805A | 公開(公告)日: | 2019-11-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊藤悠策 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三菱電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/60 | 分類號(hào): | H01L21/60;H01L25/07;H01L25/18 |
| 代理公司: | 11038 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 李今子<國際申請(qǐng)>=PCT/JP2017 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體元件 表面電極 基板 半導(dǎo)體模塊 接合 電連接 兩端部 鍵合 | ||
半導(dǎo)體模塊具備基板(1)、半導(dǎo)體元件(3)以及線(8)。半導(dǎo)體元件(3)被接合到基板(1)上,并且具有表面電極(4)。關(guān)于線(8),跨越半導(dǎo)體元件(3)的表面電極(4)而兩端部(8a)的各個(gè)端部被鍵合到基板(1)。線(8)與表面電極(4)電連接。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體模塊、半導(dǎo)體模塊的制造方法以及電力變換裝置,特別涉及包括功率半導(dǎo)體元件的功率半導(dǎo)體模塊、其制造方法以及電力變換裝置。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體模塊通常具備:基板,具有導(dǎo)體圖案;半導(dǎo)體元件,具有與導(dǎo)體圖案接合的背面和設(shè)置有表面電極的表面;以及鍵合線,與表面電極接合。
另外,在半導(dǎo)體模塊中,有線未被鍵合而半導(dǎo)體元件和線被電連接的例子。這樣的半導(dǎo)體模塊的一個(gè)例子記載于日本專利第3809379號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)。在該公報(bào)記載的半導(dǎo)體模塊中,具有開口部的保護(hù)膜覆蓋配置于半導(dǎo)體元件的表面的表面電極上。在保護(hù)膜的開口部利用焊料接合線和表面電極。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本專利第3809379號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
在上述通常的半導(dǎo)體模塊中,對(duì)表面電極鍵合線,所以在與表面電極的線的接合部中形成切口形狀。因此,在半導(dǎo)體模塊的運(yùn)用中的發(fā)熱、冷卻的反復(fù)所致的溫度變化時(shí),在線的接合部中應(yīng)力集中到切口形狀的端。由此,從切口形狀的端發(fā)生破壞。因此,難以使對(duì)半導(dǎo)體元件的表面電極鍵合的線的接合部長(zhǎng)壽命化。
另外,在上述公報(bào)記載的半導(dǎo)體模塊中,未進(jìn)行利用超聲波接合的線鍵合,所以在與表面電極的線的接合部中不形成切口形狀。然而,線通過焊料被接合到表面電極,所以相比于線鍵合,線的根數(shù)受到限制。因此,難以減小每一根線的電流密度。
本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的,其目的在于提供能夠使與半導(dǎo)體元件的表面電極的線的接合部長(zhǎng)壽命化并且減小每一根線的電流密度的半導(dǎo)體模塊、半導(dǎo)體模塊的制造方法以及電力變換裝置。
本發(fā)明的半導(dǎo)體模塊具備基板、半導(dǎo)體元件以及線。半導(dǎo)體元件被接合到基板上,并且具有表面電極。線跨越半導(dǎo)體元件的表面電極而兩端部的各個(gè)端部被鍵合到基板。線與表面電極電連接。
根據(jù)本發(fā)明的半導(dǎo)體模塊,線跨越半導(dǎo)體元件的表面電極而兩端部的各個(gè)端部被鍵合到基板,并與表面電極電連接。因此,在與表面電極的線的接合部中未形成切口形狀,所以能夠抑制應(yīng)力集中到線的接合部的端。另外,使用鍵合線,所以相比于通過焊料接合線的情況,能夠增加線的根數(shù)。因此,能夠使半導(dǎo)體元件的表面電極和線的接合部長(zhǎng)壽命化并且減小每一根線的電流密度。
附圖說明
圖1是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式1所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的正面圖。
圖2是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式1所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖3是沿著圖1以及圖2的III-III線的端面圖。
圖4是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式2所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的正面圖。
圖5是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式2所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖6是沿著圖5的VI-VI線的端面圖。
圖7是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式2的變形例1所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的正面圖。
圖8是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式2的變形例1所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖9是沿著圖7的IX-IX射線的端面圖。
圖10是概略地示出本發(fā)明的實(shí)施方式2的變形例2所涉及的半導(dǎo)體模塊的結(jié)構(gòu)的端面圖。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





