[發(fā)明專利]表面被覆切削工具及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780087563.0 | 申請日: | 2017-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN110382145B | 公開(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 阿儂薩克·帕索斯;城戶保樹;今村晉也;倉持幸治 | 申請(專利權(quán))人: | 住友電工硬質(zhì)合金株式會社;住友電氣工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | B23B27/14 | 分類號: | B23B27/14;B23B51/00;B23C5/16;B23D77/00;B23F21/00;B23G5/06;C23C16/34;C23C16/36;C23C16/56 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 張?zhí)K娜;樊曉煥 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 表面 被覆 切削 工具 及其 制造 方法 | ||
一種表面被覆切削工具,包括基材以及形成在所述基材的表面上的覆膜,其中:覆膜包括一層或多層;層中的至少一層為含有硬質(zhì)顆粒的富Al層;硬質(zhì)顆粒具有氯化鈉型晶體結(jié)構(gòu)并且包含多個聚集的第一單元相以及介于第一單元相之間的第二單元相;第一單元相包含AlxTi1?x的氮化物或碳氮化物;第一單元相中Al的原子比x為0.7至0.96;第二單元相包含AlyTi1?y的氮化物或碳氮化物;第二單元相中Al的原子比y為0.5以上且小于0.7;并且,當通過X射線衍射法從覆膜表面的法線方向進行分析時,富Al層在(111)面具有最大峰。
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及一種表面被覆切削工具以及制造該表面被覆切削工具的方法。本申請要求基于2017年2月28日遞交的日本專利申請No.2017-037376的優(yōu)先權(quán)。該日本專利申請的全部內(nèi)容以引用方式并入本文。
背景技術(shù)
日本國家專利公開No.2008-545063(專利文獻1)公開了一種具有Ti1-xAlxN覆膜的部件作為表面被覆部件。該Ti1-xAlxN覆膜的化學計量系數(shù)為0.75x≤0.93,并且晶格常數(shù)a為0.412nm至0.405nm并且具有單相立方NaCl結(jié)構(gòu)。Ti1-xAlxN覆膜通過CVD(化學氣相沉積)形成。更具體而言,將由AlCl3、TiCl4、H2和Ar組成的第一氣體混合物和由NH3和N2組成的第二氣體混合物導入到容納有基材的熱壁型CVD反應器中,以使Ti1-xAlxN的晶體生長。通過這種方法形成的覆膜比用已知PVD方法生產(chǎn)的Ti1-xAlxN覆膜的Al的含量比率更高。因此,據(jù)推測具有覆膜的表面被覆部件具有高抗氧化性和高硬度,并且在高溫下可表現(xiàn)出優(yōu)異的耐磨性。
日本專利待審查公開No.2014-129562(專利文獻2)公開了一種表面被覆部件。該表面被覆部件具有通過CVD形成的硬質(zhì)覆膜層。硬質(zhì)覆膜層包含硬質(zhì)顆粒,并且該硬質(zhì)顆粒具有這樣的多層結(jié)構(gòu):其中NaCl結(jié)構(gòu)的Ti原子比率相對高的AlTiN層和NaCl結(jié)構(gòu)的Ti原子比率相對低的AlTiN層重復堆疊(所謂的層狀相)。該層狀相的層堆疊周期為0.5nm至20nm。該硬質(zhì)覆膜層的壓痕硬度為3000kgf(s)/mm2(29.4GPa)以上,并且因此具有高硬度,由此專利文獻2的表面被覆部件可表現(xiàn)出優(yōu)異的耐磨性。
引用列表
專利文獻
專利文獻1:日本國家專利公開No.2008-545063
專利文獻2:日本專利待審查公開No.2014-129562
發(fā)明內(nèi)容
本公開的一個方面中的一種表面被覆切削工具為這樣的表面被覆切削工具,其包括:基材以及形成在該基材的表面上的覆膜,該覆膜包括一層或兩層或多層,所述層中的至少一層為含有硬質(zhì)顆粒的富Al層,硬質(zhì)顆粒具有氯化鈉型晶體結(jié)構(gòu),并且包含多個團塊形式的第一單元相以及介于第一單元相的團塊之間的第二單元相,第一單元相由AlxTi1-x的氮化物或碳氮化物組成,第一單元相的Al的原子比x為0.7以上0.96以下,第二單元相由AlyTi1-y的氮化物或碳氮化物組成,第二單元相的Al的原子比y超過0.5并且小于0.7,當通過X射線衍射在覆膜表面的法線方向上對富Al層進行分析時,富Al層在(111)面呈現(xiàn)最大峰。
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