[發(fā)明專利]增材制造系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780085902.1 | 申請(qǐng)日： | 2017-11-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN110366462A | 公開（公告）日： | 2019-10-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 凱文·喬治·哈丁 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號(hào)： | B22F3/105 | 分類號(hào)： | B22F3/105;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 上海華誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖華 |
| 地址： | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鏡陣列 熔化 激光束圖案 制造系統(tǒng) 激光束 圖案化 反射 圖案 制造 | ||
1.一種增材制造方法，其特征在于，包含：
使用鏡陣列使激光束圖案化；以及
將圖案化的所述激光束從所述鏡陣列反射到粉末上，以熔化所述粉末，其中，圖案對(duì)應(yīng)于物品的層的一部分。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含：
在所述物品的所述層凝固之后，在所述物品的所述層上散布粉末層。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含：
調(diào)整支撐所述物品的構(gòu)建臺(tái)的位置。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含：
為所述激光束設(shè)置所需分布曲線。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含：
通過(guò)每個(gè)鏡的反射角度的變化來(lái)控制圖案化的所述束的能量強(qiáng)度。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中，圖案化的所述激光束包含多個(gè)激光光斑，并且9到25個(gè)鏡的群組構(gòu)造成提供圖案化的所述激光束的每個(gè)激光光斑。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，特征在于，其中，每個(gè)鏡的功率容量為1到3瓦，并且所述鏡的群組構(gòu)造成提供10到25瓦的激光光斑。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，特征在于，其中，每個(gè)激光光斑為0.1mm。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，特征在于，其中，所述圖案對(duì)應(yīng)于所述物品的所述層的10％到100％。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，特征在于，其中，所述粉末是具有10到60μm的顆粒尺寸的超合金。
11.一種增材制造系統(tǒng)，其特征在于，包含：
構(gòu)建臺(tái)，所述構(gòu)建臺(tái)構(gòu)造成支撐要由粉末制造的物品；
激光源，所述激光源構(gòu)造成產(chǎn)生激光束；和
鏡陣列，所述鏡陣列構(gòu)造成使所述激光束圖案化并且將圖案化的所述激光束反射到所述粉末上，以熔化所述粉末，其中，圖案對(duì)應(yīng)于所述物品的層的一部分。
12.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包含：
粉末散布器，所述粉末散布器構(gòu)造成在所述物品的所述層凝固之后，在所述物品的所述層上散布粉末層。
13.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，其中，所述構(gòu)建臺(tái)構(gòu)造成移動(dòng)，以調(diào)整所述構(gòu)建臺(tái)相對(duì)于所述粉末散布器的位置。
14.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包含：
光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)造成為所述激光束設(shè)置所需分布曲線。
15.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其特征在于，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)一步構(gòu)造成通過(guò)每個(gè)鏡的反射角度的變化來(lái)控制圖案化的所述束的能量強(qiáng)度。
16.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，其中，圖案化的所述激光束包含多個(gè)激光光斑，并且9到25個(gè)鏡的群組構(gòu)造成提供圖案化的所述激光束的每個(gè)激光光斑。
17.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，特征在于，其中，每個(gè)鏡的功率容量為1到3瓦，并且所述鏡的群組構(gòu)造成提供10到25瓦的激光光斑。
18.如權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，特征在于，其中，每個(gè)激光光斑為0.1mm。
19.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，特征在于，其中，所述圖案對(duì)應(yīng)于所述物品的所述層的10％到100％。
20.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，特征在于，其中，所述粉末是具有10到60μm的顆粒尺寸的超合金。
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