[發明專利]集成數字激光器

有效

• 申請號: 201780084832.8
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN110214400B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: M.F.舒伯特;M.J.格倫德曼
• 申請（專利權）人: X開發有限責任公司
• 主分類號: H01S5/183
• 分類號: H01S5/183;H01S5/026
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 金玉潔

1.一種具有可變橫向空間模式輸出的激光器件，包括：

從在激光波長處透明的材料形成的襯底；

由所述襯底支撐的第一反射層，所述第一反射層被配置為以所述激光波長反射至少一些入射輻射；

包括增益介質的層，用于提供以所述激光波長的輻射的受激發射，該層包括位于所述第一反射層和所述襯底之間的所述增益介質；

由所述襯底支撐的第二反射層，在所述襯底的、與所述第一反射層相對的一側上，所述第二反射層被配置為以所述激光波長反射至少一些入射輻射；

由所述襯底支撐的空間光調制器，位于通過所述第一反射層和所述第二反射層包括的光學腔中的輻射路徑中，所述空間光調制器包括元件陣列，每個元件陣列對應于用于所述光學腔中的輻射的不同路徑；以及

與所述空間光調制器通信的計算機控制器，

其中，在操作期間，所述計算機控制器使所述空間光調制器選擇性地改變所述光學腔中的每個輻射路徑中的輻射強度或相位，以提供來自所述激光器件的所述輻射的可變橫向空間模式輸出。

2.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述空間光調制器在所述襯底的、與包括所述增益介質的層相對的側上。

3.根據權利要求2所述的激光器件，其中，所述空間光調制器是透射空間光調制器。

4.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述空間光調制器在所述襯底的、與包括所述增益介質的層相同的側上。

5.根據權利要求4所述的激光器件，其中，所述空間光調制器是反射空間光調制器。

6.根據權利要求4所述的激光器件，其中，所述第二反射層被布置成將由所述增益介質發射的入射輻射朝向所述空間光調制器反射，并將由所述空間光調制器反射的入射輻射朝向所述增益介質反射。

7.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述第一反射層包括用于以所述激光波長進行輻射的布拉格反射器。

8.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述第二反射層包括反射光柵。

9.根據權利要求8所述的激光器件，其中，所述反射光柵是啁啾光柵。

10.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述增益介質包括量子阱層。

11.如權利要求1所述的激光器件，還包括在包括所述增益介質的層和所述襯底之間的第一電極層。

12.根據權利要求11所述的激光器件，還包括第二電極層，所述第一電極層和所述第二電極層位于包括所述增益介質的層的相對側上。

13.根據權利要求12所述的激光器件，其中，所述第一電極層和所述第二電極層中的一個或兩者都是圖案化的電極層。

14.根據權利要求11所述的激光器件，其中，所述第一電極層從在所述激光波長處透明的導電材料形成。

15.根據權利要求11所述的激光器件，其中，所述第一電極層包括用于激光輻射通過的孔。

16.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述第一反射層或所述第二反射層是用于以所述激光波長輻射的部分反射層。

17.根據權利要求1所述的激光器件，其中，所述激光波長在250nm至5,000nm的范圍內。

18.根據權利要求1所述的激光器件，其中，在操作期間，使用電子束對所述增益介質進行電泵浦、光學泵浦或泵浦。

19.一種顯示器，包括權利要求1的激光器件。