[發(fā)明專利]基體保護(hù)膜、附著防止構(gòu)件及附著防止構(gòu)件的形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780083902.8 | 申請日: | 2017-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN110225895B | 公開(公告)日: | 2021-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 緒方四郎;須田修平;高宮祥太 | 申請(專利權(quán))人: | 星和電機(jī)株式會社 |
| 主分類號: | C03C17/42 | 分類號: | C03C17/42;B08B17/02;B32B7/02;B32B7/023;B32B9/00;C03C17/38 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;霍玉娟 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基體 保護(hù)膜 附著 防止 構(gòu)件 形成 方法 | ||
1.一種基體保護(hù)膜,是降低物質(zhì)向基體的表面附著的基體保護(hù)膜,所述基體保護(hù)膜的特征在于,
所述基體保護(hù)膜由在Ti、Si的氧化物中摻雜金屬而具有靜電排斥力的第一層、以及對表面自由能進(jìn)行控制的第二層構(gòu)成,所述第一層形成于所述基體表面上,所述第二層形成于該第一層的表面上,
所述第二層由50mJ/m2以下的低表面自由能的官能團(tuán)形成,該第二層的厚度小于1nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基體保護(hù)膜,其特征在于,所述官能團(tuán)為作為自組裝單分子膜的甲基或者己基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基體保護(hù)膜,其特征在于,所述官能團(tuán)為由烷基、亞烷基、苯基、芐基、苯乙基、羥基苯基、氯苯基、氨基苯基、萘基、氨茴基、芘基、噻吩基、吡咯基、環(huán)己基、環(huán)己烯基、環(huán)戊基、環(huán)戊烯基、吡啶基、氯甲基、甲氧基乙基、羥乙基、氨基乙基、氰基、巰基丙基、乙烯基、丙烯酰氧基乙基、甲基丙烯酰氧基乙基、環(huán)氧丙氧基丙基、或者乙酰氧基形成的烴系的疏水基。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基體保護(hù)膜,其特征在于,所述官能團(tuán)為由氟代烷基、氟代亞烷基、氟代苯基、氟代芐基、氟代苯乙基、氟代萘基、氟代氨茴基、氟代芘基、氟代噻吩基、氟代吡咯基、氟代環(huán)己基、氟代環(huán)己烯基、氟代環(huán)戊基、氟代環(huán)戊烯基、氟代吡啶基、氟代甲氧基乙基、氨基氟乙基、氟乙烯基、或者氟乙酰氧基形成的氟化物系的疏水疏油基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基體保護(hù)膜,其特征在于,摻雜金屬為從由金、銀、鉑、銅、鋯、錫、錳、鎳、鈷、鐵、鋅、堿金屬、以及堿土金屬構(gòu)成的組中選擇的至少一種金屬元素。
6.一種附著防止構(gòu)件,其通過在玻璃制成或者樹脂制成的基體的表面上形成有權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的基體保護(hù)膜而成。
7.一種附著防止構(gòu)件的形成方法,其是權(quán)利要求6所述的形成有基體保護(hù)膜而成的附著防止構(gòu)件的形成方法,
在所述附著防止構(gòu)件的形成方法中,在基體的表面上形成第一層后,在該第一層的表面上,通過自組裝單分子膜(SAM)的化學(xué)性吸附、基于等離子體CVD的蒸鍍、基于溶膠凝膠法的形成、納米粒子的涂布、使用表面改性劑的方法、基于交替層疊法的薄膜形成、復(fù)合鍍覆、電泳法、或者蝕刻處理來形成厚度小于1nm的第二層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于星和電機(jī)株式會社,未經(jīng)星和電機(jī)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780083902.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:近紅外線吸收玻璃
- 下一篇:具有減小的潤濕長度的光纖涂覆模頭





