[發明專利]研磨組合物

有效

• 申請號: 201780083133.1
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN110177852B
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 小松通郎;巖崎幸博;西田廣泰;俵迫祐二;中山和洋
• 申請（專利權）人: 日揮觸媒化成株式會社
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14;B24B37/00;C01B33/18;C01F17/235;C01F17/10;C08B15/04;C08J5/14;C09G1/02;H01L21/304
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.研磨組合物，其特征在于，包含：磨粒、纖維素單元具有羧基的改性微纖維纖維素、和分散介質，

所述改性微纖維纖維素是羧基的氫原子被取代為NH⁴⁺而得到的銨型改性微纖維纖維素。

2.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，改性微纖維纖維素是纖維素單元的C6位的羥基的至少一部分被氧化為羧基而得到的改性微纖維纖維素。

3.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，Na及K的各含量相對于固態成分重量而言為100ppm以下。

4.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，Ag、Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Ti、Zn以及Zr的各含量相對于固態成分重量而言為100ppm以下。

5.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，所述改性微纖維纖維素的羧基的含量為0.5～2.8mmol/g。

6.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，所述改性微纖維纖維素是數均纖維直徑為1～100nm、數均纖維長度為0.01～300μm、數均纖維長度與數均纖維直徑之比(數均纖維長度/數均纖維直徑)為10～3000的纖維素纖維。

7.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，所述磨粒包含氧化鈰、氧化鉻、二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦及氧化鐵中的至少1種。

8.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，所述磨粒是鈰土系復合微粒，所述鈰土系復合微粒具有以非晶質二氧化硅為主成分的母粒子、以及設置在所述母粒子的表面的以非晶質二氧化硅為主成分的二氧化硅層，在所述二氧化硅層中分散有以結晶性鈰土為主成分的子粒子。

9.根據權利要求8所述的研磨組合物，其特征在于，

對于所述鈰土系復合微粒而言，

平均粒徑為50～350nm，

二氧化硅與鈰土的質量比(M_SiO2：M_CeO2)為100：11～100：316，鈰土的平均微晶直徑為10～50nm。

10.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，包含：

0.0001～0.13mol/L的含有乙酸基或硝酸基的酸成分、以及

0.003～0.13mol/L的含有銨或胺的堿成分。

11.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，用于形成有二氧化硅膜的半導體襯底的研磨。

12.根據權利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，所述改性微纖維纖維素相對于所述磨粒的質量比為0.002～20。

13.權利要求1所述的研磨組合物的制造方法，所述研磨組合物包含銨型改性微纖維纖維素，其特征在于，

針對包含纖維素單元的C6位的羥基的至少一部分被氧化為羧基而得到的改性微纖維纖維素的分散液，使用離子交換樹脂進行離子交換，然后添加氨或胺并且添加磨粒。

14.權利要求1所述的研磨組合物的制造方法，所述研磨組合物包含銨型改性微纖維纖維素，其特征在于，

針對包含纖維素單元的C6位的羥基的至少一部分被氧化為羧基而得到的改性微纖維纖維素以及磨粒的分散液，使用離子交換樹脂進行離子交換，然后添加氨或胺。

15.研磨襯底的制造方法，其特征在于，具有下述工序：

第1次研磨工序，使用由權利要求1～12中任一項所述的研磨組合物形成的第1研磨組合物來對襯底進行研磨，以及

第2次研磨工序，使用包含磨粒和分散介質的第2研磨組合物來對襯底進行研磨。