[發(fā)明專(zhuān)利]測(cè)量裝置、涂布裝置及膜厚測(cè)定方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780081240.0
• 申請(qǐng)日: 2017-11-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110140021A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-08-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大庭博明
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: NTN株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G01B11/06
• 分類(lèi)號(hào): G01B11/06;B05C1/02;B05C5/00;B05C11/00;G01N21/45
• 代理公司: 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 俞丹;宋俊寅

本發(fā)明提供一種測(cè)量基板上的透明材料的膜厚的方法。在基板上，將第一對(duì)象物(透明材料)涂布到第一基板表面上，并將第二對(duì)象物(透明材料)涂布到第二基板表面上。該方法包括：測(cè)量第一對(duì)象物的前表面相對(duì)于第一基板表面在未涂布第一對(duì)象物的位置處的第一相對(duì)高度；測(cè)量第一對(duì)象物的前表面相對(duì)于第一對(duì)象物的后表面的第二相對(duì)高度；基于第一相對(duì)高度和第二相對(duì)高度計(jì)算透明材料的折射率(S10)。該方法還包括使用第二對(duì)象物的前表面相對(duì)于第二對(duì)象物的后表面的第三相對(duì)高度以及計(jì)算出的折射率來(lái)測(cè)量第二對(duì)象物的膜厚(S20)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及測(cè)量裝置、涂布裝置以及膜厚測(cè)定方法，特別地涉及對(duì)涂布的透明材料的膜厚進(jìn)行檢測(cè)用的技術(shù)。

背景技術(shù)

已知有通過(guò)使用尖端直徑為數(shù)十微米的涂布針和具有數(shù)微米到數(shù)十微米的光斑直徑的激光束來(lái)進(jìn)行精確加工和校正顯微圖案的技術(shù)(專(zhuān)利文獻(xiàn)1至3)。其中，使用涂布針的加工技術(shù)可以涂布粘度相對(duì)較高的材料。因此，使用涂布針的加工技術(shù)也用于形成不小于10μm的相對(duì)較厚的膜，以形成例如MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))和傳感器之類(lèi)的半導(dǎo)體器件的電子電路圖案等。

此外，近年來(lái)，電子部件的布線圖案變得越來(lái)越精細(xì)，并且這種加工技術(shù)也已經(jīng)應(yīng)用于需要更高可靠性的領(lǐng)域，并且期望檢查所涂布材料的膜厚和體積。

現(xiàn)有技術(shù)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本專(zhuān)利特開(kāi)2007-268354號(hào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：日本專(zhuān)利特開(kāi)2009-122259號(hào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)3：日本專(zhuān)利特開(kāi)2009-237086號(hào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)4：日本專(zhuān)利特開(kāi)2008-286630號(hào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題

作為檢測(cè)透明材料的膜厚的方法，已知日本專(zhuān)利特開(kāi)No.2008-286630號(hào)(專(zhuān)利文獻(xiàn)4)中描述的使用白光干涉測(cè)量法的檢測(cè)方法。白光干涉測(cè)量法是使用白光干涉儀觀察由從透明材料的前表面反射的光產(chǎn)生的干涉光和由從透明材料的后表面反射的光產(chǎn)生的干涉光，并且基于各干涉光的干涉光強(qiáng)度(測(cè)量膜厚t')的峰值之間的距離與透明材料的折射率(n)，根據(jù)下面的公式(1)計(jì)算實(shí)際的膜厚(t)：

t＝t’/n…(1)

在專(zhuān)利文獻(xiàn)4中描述的方法中，需要預(yù)先知道材料的折射率n。因此，有必要預(yù)先詢問(wèn)所用材料的制造商關(guān)于折射率的信息，或者準(zhǔn)備用于測(cè)量折射率的單獨(dú)設(shè)備。

另外，當(dāng)混合使用多種材料時(shí)，據(jù)知折射率會(huì)隨著混合比的不同而變化。折射率也可能隨著諸如溫度和濕度等使用環(huán)境的變化而變化，。因此，為了準(zhǔn)確且快速地檢測(cè)膜厚，需要在接近實(shí)際膜厚測(cè)量的條件下獲得折射率。

本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而完成的，其目的在于快速且高精度地測(cè)定所涂布的透明材料的膜厚。

解決技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案