[發(fā)明專利]珍珠巖及其制造方法、以及水處理方法及水處理材料

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780081196.3
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN110114312B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發(fā)明（設計）人: 小林與生;笠井誠;神谷昌岳;近藤充記;中平敦
• 申請（專利權）人: 三井金屬珍珠巖株式會社;株式會社牧野;公立大學法人大阪
• 主分類號: C01B33/26
• 分類號: C01B33/26;B01J20/12;B01J20/30;C01B39/02;C02F1/28
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種水處理方法，其特征在于，使用表面修飾珍珠巖對水溶液中的選自由Al、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cs以及Sr組成的組中至少一種元素進行吸附處理，其中，

所述表面修飾珍珠巖是具有形成有沸石的結構的珍珠巖，

在所述珍珠巖與所述沸石之間具有從所述珍珠巖的無定形結構向所述沸石的晶體結構連續(xù)變化的部分，

所述水處理方法包括表面修飾珍珠巖的制備，所述表面修飾珍珠巖的制備包括：

調制工序，以Si與Al的摩爾比為0.5以上且1.5以下的方式，在堿金屬氫氧化物的水溶液中加入珍珠巖和鋁鹽；以及

加熱工序，對調制工序中得到的溶液在加熱溫度45℃～55℃的范圍中、在常壓下進行加熱。

2.一種水處理方法，其特征在于，使用表面修飾珍珠巖對水溶液中的選自由Al、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cs以及Sr組成的組中至少一種元素進行吸附處理，其中，

所述表面修飾珍珠巖是具有形成有沸石的結構的珍珠巖，在所述珍珠巖與所述沸石之間具有從所述珍珠巖的無定形結構向所述沸石的晶體結構連續(xù)變化的部分，

對所述表面修飾珍珠巖的粉末照射規(guī)定時間以上的超聲波后的所述表面修飾珍珠巖的粉末的成為粒徑分布的至少一個峰的粒徑分別與照射所述超聲波前的所述表面修飾珍珠巖的粉末的成為粒徑分布的至少一個峰的粒徑大致相同，

所述水處理方法包括表面修飾珍珠巖的制備，所述表面修飾珍珠巖的制備包括：

調制工序，以Si與Al的摩爾比為0.5以上且1.5以下的方式，在堿金屬氫氧化物的水溶液中加入珍珠巖和鋁鹽；以及

加熱工序，對調制工序中得到的溶液在加熱溫度45℃～55℃的范圍中、在常壓下進行加熱。

3.根據權利要求2所述的水處理方法，其特征在于，對所述表面修飾珍珠巖的粉末照射第一規(guī)定時間的所述超聲波后的粒徑分布的至少一個峰分別與對所述表面修飾珍珠巖的粉末照射比所述第一規(guī)定時間長的第二規(guī)定時間以上的所述超聲波后的粒徑分布的至少一個峰大致相同。

4.一種水處理材料，其特征在于，

其是包含表面修飾珍珠巖的水處理材料，所述表面修飾珍珠巖是具有形成有沸石的結構的珍珠巖，在所述珍珠巖與所述沸石之間具有從所述珍珠巖的無定形結構向所述沸石的晶體結構連續(xù)變化的部分，

所述水處理材料以能夠吸附水溶液中的選自由Al、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cs以及Sr組成的組中至少一種元素的方式構成，

所述水處理材料通過包括如下工序的制備方法得到：

調制工序，以Si與Al的摩爾比為0.5以上且1.5以下的方式，在堿金屬氫氧化物的水溶液中加入珍珠巖和鋁鹽；以及

加熱工序，對調制工序中得到的溶液在加熱溫度45℃～55℃的范圍中、在常壓下進行加熱。

5.一種水處理材料，其特征在于，

其是包含表面修飾珍珠巖的水處理材料，

所述表面修飾珍珠巖是具有形成有沸石的結構的珍珠巖，在所述珍珠巖與所述沸石之間具有從所述珍珠巖的無定形結構向所述沸石的晶體結構連續(xù)變化的部分，

對所述表面修飾珍珠巖的粉末照射規(guī)定時間以上的超聲波后的所述表面修飾珍珠巖的粉末的成為粒徑分布的至少一個峰的粒徑分別與照射所述超聲波前的所述表面修飾珍珠巖的粉末的成為粒徑分布的至少一個峰的粒徑大致相同，

所述水處理材料以能夠吸附水溶液中的選自由Al、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cs以及Sr組成的組中至少一種元素的方式構成，

所述水處理材料通過包括如下工序的制備方法得到：

調制工序，以Si與Al的摩爾比為0.5以上且1.5以下的方式，在堿金屬氫氧化物的水溶液中加入珍珠巖和鋁鹽；以及

加熱工序，對調制工序中得到的溶液在加熱溫度45℃～55℃的范圍中、在常壓下進行加熱。

6.根據權利要求5所述的水處理材料，其特征在于，對所述表面修飾珍珠巖的粉末照射第一規(guī)定時間的所述超聲波后的粒徑分布的至少一個峰分別與對所述表面修飾珍珠巖的粉末照射比所述第一規(guī)定時間長的第二規(guī)定時間以上的所述超聲波后的粒徑分布的至少一個峰大致相同。