[發(fā)明專利]基板保護(hù)層形成用組合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780080618.5
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN110099974B
• 公開（公告）日: 2022-02-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江原和也
• 申請（專利權(quán)）人: 日產(chǎn)化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C09D179/08
• 分類號(hào): C09D179/08;B05D3/02;B05D3/12;B05D7/24;C08G73/10;C08L79/08;H05K3/28
• 代理公司: 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 賈成功

提供基板保護(hù)層形成用組合物，其為以下的基板保護(hù)層形成用組合物：在基體上形成樹脂基板后將上述樹脂基板剝離而制作樹脂基板時(shí)，介于所述基體與樹脂基板之間，具有從上述基體的易剝離性，且作為剝離后的樹脂基板的保護(hù)層來發(fā)揮功能；其包含聚酰胺酸和有機(jī)溶劑。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及基板保護(hù)層形成用組合物。

背景技術(shù)

近年來，對于電子器件，除了薄型化及輕質(zhì)化這樣的特性以外，還尋求賦予能夠彎曲這樣的功能。由此考慮，要求替代以往的重、脆弱、不能彎曲的玻璃基板而使用輕質(zhì)的柔性塑料基板。

特別地，對于新一代顯示器而言，要求開發(fā)使用有輕質(zhì)的柔性塑料基板(以下表記為樹脂基板)的有源矩陣型全色TFT顯示器面板。對于與該新一代顯示器有關(guān)的技術(shù)而言，期待向柔性顯示器、柔性智能電話、鏡像顯示器等各種領(lǐng)域中轉(zhuǎn)用。

因此，開始研究各種以樹脂膜作為基板的電子器件的制造方法，對于新一代顯示器而言，在進(jìn)行可轉(zhuǎn)用現(xiàn)有的TFT顯示器面板制造用的設(shè)備的工藝的研究。

例如，在專利文獻(xiàn)1、2及3中，公開有如下的方法：在玻璃基板上形成無定形硅薄膜層，在該薄膜層上形成塑料基板后，從玻璃基板側(cè)照射激光而使無定形硅結(jié)晶化，通過與該結(jié)晶化相伴而產(chǎn)生的氫氣將塑料基板從玻璃基板剝離。

另外，在專利文獻(xiàn)4中，公開有如下的方法：使用專利文獻(xiàn)1～3中公開的技術(shù)將被剝離層(專利文獻(xiàn)4中記載為“被轉(zhuǎn)印層”)粘貼于塑料膜而完成液晶顯示裝置。

但是，在專利文獻(xiàn)1～4中公開的方法、特別是專利文獻(xiàn)4中公開的方法中，存在如下問題：為了使激光透過，必須使用透光性高的基板；需要足以使其通過基板、進(jìn)而使無定形硅中所含的氫放出的比較大的能量的激光的照射；由于激光的照射，有時(shí)對被剝離層造成損傷。

并且，在被剝離層為大面積的情況下，激光處理需要長時(shí)間，因此難以提高器件制作的生產(chǎn)率。

作為解決這樣的問題的手段，在專利文獻(xiàn)5中采用有如下的制造工序：使用現(xiàn)有的玻璃基板作為基體(以下稱為玻璃基體)，在該玻璃基體上使用環(huán)狀烯烴共聚物這樣的聚合物來形成剝離層，在該剝離層上形成聚酰亞胺膜等耐熱樹脂膜(樹脂基板)后，在該膜上用真空工藝來形成·密封ITO透明電極、TFT等后，最終將玻璃基體剝離·除去。

但是，現(xiàn)在，作為TFT，使用與無定形硅TFT相比、遷移率快2倍的低溫多晶硅TFT。就該低溫多晶硅TFT而言，在無定形硅蒸鍍后，必須在400℃以上進(jìn)行脫氫退火、照射脈沖激光、使硅結(jié)晶化(以下將它們稱為TFT工序)，就上述脫氫退火工序的溫度而言，為現(xiàn)有的聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(以下記為Tg)以上。

但是，就現(xiàn)有的聚合物而言，已知：在加熱到Tg以上的溫度的情況下，密合性提高(例如參照專利文獻(xiàn)6)，在加熱處理后剝離層與基體及樹脂基板的密合性提高，有時(shí)將樹脂基板從基體剝離變得困難。

另外，就可在這樣的工序中應(yīng)用的耐熱性聚合物而言，限于聚酰亞胺等部分高耐熱性高分子化合物，但不能在一般的溶劑中溶解。因此，將上述聚酰亞胺用于剝離層的情況下，難以在將樹脂基板剝離后將殘留于玻璃基體的剝離層除去而將玻璃基體再利用。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平10-125929號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開平10-125931號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：國際公開第2005/050754號(hào)

專利文獻(xiàn)4：日本特開平10-125930號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)5：日本特開2010-111853號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)6:日本特開2008-188792號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容