[發明專利]微流體裝置的表面性質修飾

在審

• 申請號: 201780080239.6
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN110099968A
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: J·瑞切伊;Y·薛;R·梅爾澤
• 申請（專利權）人: 生物輻射實驗室股份有限公司
• 主分類號: C09D5/16
• 分類號: C09D5/16;C09D183/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳揚揚;蔡文清

1.一種經涂覆的聚合物表面，其包括：

包含疏水性聚合物的基材層；以及

包含硅酮聚合物和疏水性二氧化硅的涂料層，其中，涂料層吸附至至少部分基材層。

2.如權利要求1所述的經涂覆的聚合物表面，其中，硅酮聚合物的數均分子量為1000Da至10,000Da。

3.如權利要求1或2所述的經涂覆的聚合物表面，其中，所述涂料層中硅酮聚合物與疏水性二氧化硅的質量比率為1.5∶1至15∶1。

4.如權利要求1-3中任一項所述的經涂覆的聚合物表面，其中，硅酮聚合物是聚二甲基硅氧烷。

5.如權利要求1-4中任一項所述的經涂覆的聚合物表面，其中，經涂覆的聚合物表面具有大于100°的水接觸角。

6.如權利要求5所述的經涂覆的聚合物表面，其中，在暴露于1mg/mL牛血清白蛋白水性溶液1小時后，水接觸角變化小于10°。

7.如權利要求1-6中任一項所述的經涂覆的聚合物表面，其中，疏水性聚合物是環烯烴聚合物(COP)或環烯烴共聚物(COC)。

8.如權利要求1所述的經涂覆的聚合物表面，其中，所述基材層包含COP，其中，所述涂料層包含聚二甲基硅氧烷和疏水性二氧化硅，其中，硅酮聚合物的分子量為1000Da至10,000Da，并且其中，所述涂料層中聚二甲基硅氧烷與疏水性二氧化硅的質量比率為1.5∶1至15∶1。

9.一種包含具有內表面的微流體通道的裝置，其中，所述內表面包含如權利要求1-8中任一項所述的經涂覆的聚合物表面。

10.一種使具有液滴的乳液移動通過微流體通道的方法，所述方法包括：

提供如權利要求9所述的裝置；

提供包含液滴和乳液流體的乳液；

提供足以使所述乳液移動通過所述裝置的微流體通道的力。

11.如權利要求10所述的方法，其中，所述液滴是含有足以進行聚合酶鏈式反應的試劑和核酸的水性液滴。

12.如權利要求10或11所述的方法，其中，所述乳液流體包含氟化油或硅油。

13.一種產生經涂覆的聚合物表面的方法，所述方法包括：

使包含疏水性聚合物的基材層與包含硅酮聚合物、硅油和疏水性二氧化硅的混合物接觸，以使得至少部分硅酮聚合物和疏水性二氧化硅吸附至基材層；以及

從基材層沖洗去未吸附至基材層的硅酮聚合物、硅油和疏水性二氧化硅，由此產生經涂覆的聚合物表面。

14.如權利要求13所述的方法，其中，經涂覆的聚合物表面是微流體通道的內表面。

15.如權利要求13或14所述的方法，其中，硅酮聚合物的數均分子量為1000Da至10,000Da。

16.如權利要求13-15中任一項所述的方法，其中，所述混合物中硅酮聚合物與疏水性二氧化硅的質量比率為1.5∶1至15∶1。

17.如權利要求13-16中任一項所述的方法，其中，硅酮聚合物是聚二甲基硅氧烷。

18.如權利要求13-17中任一項所述的方法，其中，硅油的分子量小于500Da。

19.如權利要求13-18中任一項所述的方法，其中，硅油是六甲基二硅氧烷。