[發(fā)明專利]用于對(duì)金屬片或板矯直機(jī)拋光的設(shè)備和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780080151.4
• 申請(qǐng)日: 2017-10-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110191770B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·R·拉夫納;S·M·塔克;A·E·威靈頓;T·J·考克斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 瑞典鋼鐵企業(yè)有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): B21B28/04
• 分類號(hào): B21B28/04
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 李隆濤

一種用于安全且高效地對(duì)金屬片或板矯直機(jī)的工作輥拋光的設(shè)備和方法。該設(shè)備包括支撐件和一個(gè)或多個(gè)拋光器組件，拋光器組件插在矯直機(jī)的上工作輥和下工作輥之間，用于在工作輥的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中同時(shí)拋光矯直機(jī)的上工作輥和/或下工作輥。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)總體涉及金屬片或板矯直機(jī)拋光器，更具體地涉及用于對(duì)矯直機(jī)的工作輥拋光的設(shè)備和方法。

背景技術(shù)

矯直機(jī)(諸如熱矯直機(jī))通常用于金屬片和板軋機(jī)，即用于生產(chǎn)金屬片或板的熱輥軋機(jī)。圖1示出了來(lái)自操作者側(cè)的典型矯直機(jī)100。如圖1所示，矯直機(jī)通常包括可移動(dòng)的上工作輥60和固定的下工作輥62。金屬片或板從矯直機(jī)的入口側(cè)64進(jìn)入矯直機(jī)，在上下工作輥之間通過(guò)，然后通過(guò)出口側(cè)66離開(kāi)矯直機(jī)。矯直機(jī)的輥軋和冷卻過(guò)程減少了通過(guò)其中的金屬片或板的剩余平直度誤差和殘余應(yīng)力。然而，由于金屬片或板通過(guò)輥，在金屬片或板上的相當(dāng)大的壓縮力下，顆粒傾向于聚集在對(duì)金屬片或板加工的工作輥上，這可能導(dǎo)致片的鑿孔、凹坑和劃痕和隨后水平板品質(zhì)的下降。因此，工作輥的拋光和清潔對(duì)于通過(guò)矯直機(jī)的金屬片或板的有效性和品質(zhì)是至關(guān)重要的。

傳統(tǒng)上，通過(guò)將矯直機(jī)支撐在打開(kāi)位置來(lái)拋光矯直機(jī)，在所述打開(kāi)位置矯直機(jī)的頂部42被升高(例如，用輥嵌套支撐車)。操作員將物理地爬入開(kāi)放式矯直機(jī)并使用手動(dòng)研磨機(jī)動(dòng)力工具對(duì)工作輥進(jìn)行研磨拋光。這個(gè)過(guò)程具有潛在的危險(xiǎn)性和低效性，因?yàn)椴僮鲉T在拋光工作輥時(shí)可能會(huì)受傷。同樣，工作輥的持續(xù)和定性清潔程度因操作員或磨削設(shè)備的機(jī)械狀況以及工作輥上的區(qū)域是否完全可供試圖拋光工作輥的操作員進(jìn)入而異。拋光操作的均勻性不僅可以相對(duì)于工作輥區(qū)域的可接近性而變化，而且可以根據(jù)操作者投入的時(shí)間和壓力的量而變化。缺乏均勻性會(huì)影響工作輥的最終狀態(tài)，進(jìn)而影響水平金屬片或板的品質(zhì)。

已經(jīng)使用了更自動(dòng)化的方法。在中國(guó)專利CN205183384中公開(kāi)的這樣一種技術(shù)要求使用凹形鋼絲刷來(lái)清潔工作輥。

或者，日本專利JP200605193公開(kāi)了一種清潔構(gòu)件的使用，該清潔構(gòu)件包括可膨脹的氣囊，該氣囊在工作輥旋轉(zhuǎn)的同時(shí)沿著工作輥的長(zhǎng)度往復(fù)運(yùn)動(dòng)以清潔工作輥。

本發(fā)明的目的是效率地、有效地和安全地清潔工作輥，以確保由矯直機(jī)本身加工的金屬片或板的品質(zhì)。

鑒于以下公開(kāi)內(nèi)容，包括附圖和權(quán)利要求，這些和其他目的和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見(jiàn)。

發(fā)明內(nèi)容

提供本發(fā)明內(nèi)容是為了以簡(jiǎn)化的形式介紹選定的一些概念，這些概念將在下面的具體實(shí)施方式中進(jìn)一步描述。本發(fā)明內(nèi)容不旨在標(biāo)識(shí)所要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保護(hù)的主題的范圍。

本發(fā)明的一個(gè)方面涉及一種用于對(duì)金屬片或板矯直機(jī)的工作輥拋光的設(shè)備，其中每個(gè)工作輥具有工作輥圓周，以及沿其縱向軸線確定的工作輥長(zhǎng)度。矯直機(jī)包括框架，一系列上工作輥和一系列下工作輥。在一個(gè)實(shí)施例中，拋光設(shè)備包括上拋光平臺(tái)和下拋光平臺(tái)，一個(gè)平臺(tái)包含用于拋光上工作輥的拋光器，另一個(gè)平臺(tái)包含用于拋光矯直機(jī)的下工作輥的拋光器。矯直機(jī)的上工作輥布置為第一系列，并且矯直機(jī)的下工作輥布置為第二系列。在另一個(gè)實(shí)施例中，如下文所述，拋光設(shè)備利用單個(gè)平臺(tái)，所述平臺(tái)具有在平臺(tái)的每一側(cè)上集成時(shí)固定就位的拋光器。

拋光單元包括至少一個(gè)拋光器，該拋光器被配置成當(dāng)相應(yīng)的工作輥旋轉(zhuǎn)時(shí)，接合和拋光來(lái)自矯直機(jī)中的一系列上工作輥和下工作輥的至少一個(gè)工作輥。在該實(shí)施例中，拋光器被配置成在工作輥旋轉(zhuǎn)時(shí)接合并拋光矯直機(jī)的那一個(gè)或多個(gè)工作輥的至少基本整個(gè)長(zhǎng)度。此外，所述至少一個(gè)拋光器包括基本上剛性的凹形盤，其具有位于其中的研磨材料，用于在拋光器與工作輥接合時(shí)并且進(jìn)一步在工作輥于基本上剛性的凹形盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)時(shí)將研磨材料暴露于相應(yīng)的工作輥。